真空鍍膜技術(shù)在光學(xué)儀器中的應(yīng)用

人們熟悉的光學(xué)儀器有望遠(yuǎn)鏡、顯微鏡、照相機(jī)、測(cè)距儀、以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等。它們都離不開(kāi)鍍膜技術(shù)，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

一般光學(xué)儀器中的光學(xué)系統(tǒng)都由多個(gè)透鏡組成，光線要經(jīng)玻璃界面，會(huì)有相當(dāng)多的光線被反射掉，透過(guò)的光線很少，影響光學(xué)儀器的光學(xué)效果。為了減少反射損耗，增大光線的透過(guò)率，往往在玻璃表面沉積增透膜來(lái)提高光的透過(guò)率。反射膜與增透膜相反，反射膜要求把入射光大部分或幾乎全部反射回去。例如：光學(xué)儀器、激光器、波導(dǎo)管、汽車和燈具的反射鏡都需要鍍反射膜。反射膜有金屬膜和介質(zhì)膜兩種。鍍制金屬高反射膜常用的材料有鋁、銀、金、銅等。為了提高金屬膜表面的抗擦損能力，往往在表面鍍一層保護(hù)膜，如SiO/SiO2/Al2O3。

在激光器和多光束干涉儀反射鏡上，一般沉積低吸收、高反射的全介質(zhì)反射膜。其結(jié)構(gòu)是在基片上交替沉積光學(xué)厚度為λ/4的高、低折射率材料的膜層。

真空鍍膜機(jī)的工作原理是怎樣的?

真空鍍膜機(jī)的運(yùn)用非常廣泛，涉入到各個(gè)行業(yè)，也廣受大家喜愛(ài)，那么它的工作原理是怎樣的呢？下面至成真空小編為大家詳細(xì)的介紹一下，希望能幫到大家：

真空鍍膜設(shè)備主要指需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括多弧離子真空鍍膜設(shè)備，真空離子蒸發(fā)，光學(xué)鍍膜機(jī)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。真空鍍膜的工作原理是膜體在高溫下蒸發(fā)落在工件表面結(jié)晶。由于空氣對(duì)蒸發(fā)的膜體分子會(huì)產(chǎn)生阻力造成碰撞使結(jié)晶體變得粗糙無(wú)光，所以必須在高真空下才能使結(jié)晶體細(xì)密光亮，如果真空度不高結(jié)晶體就會(huì)失去光澤結(jié)合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發(fā)體自然散射，結(jié)合差工效低光澤差?，F(xiàn)在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發(fā)分子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜，解決了過(guò)去自然蒸發(fā)無(wú)法加工的膜體品種，如鍍鈦鍍鋯等等。

全自動(dòng)真空鍍膜機(jī)

適應(yīng)于玻璃、塑膠等基片上鍍制各類光學(xué)薄膜和其它機(jī)能性裝飾薄膜的批量化生產(chǎn)

采用先進(jìn)的電氣控制系統(tǒng)，良好的用戶操作界面，大大減輕作業(yè)人員的負(fù)擔(dān)

RCS自動(dòng)鍍膜控制系統(tǒng)保證整個(gè)鍍膜過(guò)程自動(dòng)完成

基片架轉(zhuǎn)動(dòng)采用磁流體密封技術(shù)保證真空密封，中心驅(qū)動(dòng)方式保證薄膜產(chǎn)品的均勻性及重復(fù)性

優(yōu)化的配置、嚴(yán)格的品質(zhì)控制保證產(chǎn)品質(zhì)量的穩(wěn)定性和重復(fù)性

排氣速率.鍍膜效率的提高，大大縮短了產(chǎn)品生產(chǎn)周期