潔凈室中的溫濕度控制。潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到 人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。濕度過高產(chǎn)生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學吸附在表面耐難以清除。

現(xiàn)在我們國家的經(jīng)濟科技在發(fā)展，同時帶動了社會各行各業(yè)在告訴發(fā)展中。以凈化工程這個行業(yè)為例，在目前呈現(xiàn)一片喜人的發(fā)展態(tài)勢。排風系統(tǒng)有一般排風系統(tǒng)、有機氣體排風系統(tǒng)、酸性氣體排風系統(tǒng)、堿性氣體排風系統(tǒng)等，凈化車間設計時，要根據(jù)實際情況選擇。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導體車間，這種車間不宜超過25度。

現(xiàn)在國內(nèi)的相關(guān)企業(yè)很多，所以凈化工程企業(yè)之間的競爭也很激烈，因為科技的發(fā)展使得市場對凈化工程的要求高了起來，從以前的價格競爭變成了現(xiàn)在的價值競爭。所以相關(guān)的凈化工程企業(yè)應該提高自身的自主研發(fā)能力，不斷的發(fā)展創(chuàng)新，才能適應這個競爭激烈的市場。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導體車間，這種車間不宜超過25度。凈化工程的一般施工程序：粉塵作業(yè)，無塵作業(yè)后，不允許交叉作業(yè)。 否則會影響項目的質(zhì)量。 也就是說，在完成所有粉塵產(chǎn)生操作之后，可以進行無塵操作。