佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車(chē)輛燈具注塑 鍍膜為主的專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)廠家，公司秉承“以質(zhì)取勝，求真務(wù)實(shí)，顧客至上”理念，歡迎廣大客戶(hù)光臨了解.

鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對(duì)膜層沉積的影響：

鍍膜時(shí)間：膜層厚度隨鍍膜時(shí)間的增加而增加,但不是線(xiàn)形增加,當(dāng)厚度達(dá)到一定的時(shí)候,增加速度會(huì)變慢后基本停止,而且鍍膜時(shí)間越長(zhǎng)膜層應(yīng)力越大.外觀越差。

送氣方式和氣體流量：采用從少到多逐步增加氣體流量的方式加氣使膜層從金屬逐漸過(guò)渡到化合物是很好的一種加氣方式，如做黑膜這樣還可以延緩靶，使顏色做得更深。

鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對(duì)膜層沉積的影響

靶基距：靶基距是影響成膜速率的重要因素之一，隨著靶基距增加，被濺射材料射向基片時(shí)與氣體分子碰撞的次數(shù)增多，同時(shí)等離子體密度也減弱，動(dòng)能減少，沉積速率降低，但膜層外觀較好。靶基距太小，沉積太快，工件溫升大，膜層外觀差。

靶功率；比如含有j基（Me化學(xué)式-CH3)的化合物，因成分中含有碳?xì)浠鶊F(tuán)，都屬于有機(jī)類(lèi)物質(zhì)。磁控濺射本身粒子初始動(dòng)能比較小，離化率低，電源功率越大，濺射出的粒子的初始能量越大，靶材濺射量也越大，沉積速率越快，膜層容易上厚度和硬度，同時(shí)工件溫升也大，過(guò)高的功率會(huì)使沉積速率太快，粒子來(lái)不及表面遷移和擴(kuò)散，易形成陰影效應(yīng)，膜層會(huì)比較疏松，應(yīng)力較大。

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PLD缺點(diǎn)：1、在鍍膜過(guò)程中，薄膜會(huì)被沉積在薄膜上的等離子本管中產(chǎn)生的微粒、氣態(tài)原子和分子降低質(zhì)量，采取一定的措施后也

不能完全消除.2、在控制摻雜、生長(zhǎng)平滑的多層膜等方面PLD生長(zhǎng)部比較困難，因此進(jìn)一步提高薄膜的質(zhì)量會(huì)比較困難.

常見(jiàn)的濺射有兩種：不反應(yīng)濺射和反應(yīng)濺射。不反應(yīng)濺射指濺射氣體和鍍膜材料之間不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。因此不反應(yīng)濺射所使用的氣體為惰性氣體，一般使用y氣（Ar），稱(chēng)為工作氣體。不反應(yīng)濺射一般都用在鍍金屬膜層上，導(dǎo)電性能越好的材料，濺射速率越高。