高純水是化學(xué)純度極高的水，其中的雜質(zhì)的含量小于0.1mg/L，一般在電子、航天或其他特殊行業(yè)工藝生產(chǎn)中，為了達(dá)到產(chǎn)品所需工藝用水，一般需要電導(dǎo)率0.055μS/cm（電阻率18.2 MΩ?cm）的理論純水，統(tǒng)稱為高純水或超純水

目前人們制成的高純水的純度已經(jīng)達(dá)到99.999999%，其中雜質(zhì)含量低于0.01mg/L，將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎全部去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體和有機(jī)物均去除至很低程度的水。高純水的含鹽量在0. 3mg/L以下，電導(dǎo)率小于0. 2μs/cm。

純水設(shè)備的清洗方法：

低壓沖洗技術(shù)清洗法

在日常生活中，使用純凈水設(shè)備時也要清洗設(shè)備，因為長時間使用會造成凈水設(shè)備污染，設(shè)備不能正常工作。定期采用低壓沖洗技術(shù)清洗設(shè)備表面污垢。

2、停止設(shè)備運行保護(hù)

設(shè)備長期運行時，反滲透純水設(shè)備技術(shù)會出現(xiàn)波動，一旦凈化水設(shè)備處理不合理將導(dǎo)致設(shè)備膜性能下降，嚴(yán)重時可能導(dǎo)致設(shè)備不能使用。我們在短時間內(nèi)采取保護(hù)措施，適當(dāng)?shù)赝Ｖ乖O(shè)備的運行也是設(shè)備清洗和保護(hù)的一種方法。

3、化學(xué)清洗法

純化水設(shè)備的膜表面易受某些微生物或無機(jī)物的影響。我們理想的清潔時間是每六個月一次。如果凈化水設(shè)備每月需要清洗一次，就意味著我們需要調(diào)整設(shè)備參數(shù)，改進(jìn)預(yù)處理系統(tǒng)。因此，化學(xué)清洗凈化水設(shè)備的膜也是保護(hù)凈化水設(shè)備的系統(tǒng)之一。

反滲透純水設(shè)備為什么要排水？反滲透膜的工作中全過程事實上是1個液體萃取的全過程，水里的鹽分隨之流水過反滲透膜表層持續(xù)的提升，水的血漿滲透壓也持續(xù)的提升。當(dāng)血漿滲透壓提升到增壓水泵的工作壓力時，水就不可以根據(jù)反滲透膜注入凈化水一邊。另一個因為水里礦物濃度值的持續(xù)提升，某些礦物（如碳酸氫鈣、碳酸氫鈣、硅）就會在反滲透膜表層堆積出來，并阻塞反滲透膜的孔隙度，造成反滲透膜產(chǎn)水率降低和水的電導(dǎo)率（反滲透膜除去水里無機(jī)鹽的工作能力）降低，因而反滲透純水設(shè)備務(wù)必要排水。