潔凈室中的溫濕度控制潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來(lái)確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對(duì)溫濕度的要求也越來(lái)越嚴(yán)的趨勢(shì)。因此這種情況下不僅有流層之間因紊流流動(dòng)而發(fā)生的摻混，而且還有全室范圍內(nèi)的大的回流、旋渦所發(fā)生的摻混。具體工藝對(duì)溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來(lái)越精細(xì)，所以對(duì)溫度波動(dòng)范圍的要求越來(lái)越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來(lái)越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時(shí)要求濕度值一般較低，因?yàn)槿顺龊挂院螅瑢?duì)產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間不宜超過(guò)25度。濕度過(guò)高產(chǎn)生的問(wèn)題更多。相對(duì)濕度超過(guò)55%時(shí)，冷卻水管壁上會(huì)結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會(huì)引起各種事故。相對(duì)濕度在50%時(shí)易生銹。此外，濕度太高時(shí)將通過(guò)空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面耐難以清除。相對(duì)濕度越高,粘附的難去掉，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對(duì)于硅片生產(chǎn)溫度范圍為35—45%。

不需要占用機(jī)房面積，布置很靈活的;B.可以滿足空氣的潔凈度;C.造價(jià)低。組合式空氣處理機(jī)組里含有各種功能段，如混合段、初效過(guò)濾段、表冷段、二次回風(fēng)段(或中間段)、加熱段、加濕段、中效過(guò)濾段、風(fēng)機(jī)段等。如此類無(wú)塵車間初投資約需要40萬(wàn);D.送風(fēng)均勻度好。缺點(diǎn)：A.溫濕度控制較差;B.可以滿足空氣的潔凈度;C.FFU的維修頻率高。4、光學(xué)微電子行業(yè)凈化工程設(shè)計(jì)方案分析之無(wú)塵車間的特點(diǎn)A、無(wú)塵車間潔凈度:LCD制屏的簡(jiǎn)略流程為：清洗→印刷取向膜→磨擦→密封印刷層散布隔墊物→組合→劃線和切割→LC注入→貼偏振片→制屏終檢。

潔凈室凈化工程設(shè)計(jì)應(yīng)確保安全生產(chǎn)和滿足環(huán)境保護(hù)的要求?！?0%），加濕量很大的工業(yè)廠房和一般舒適用空調(diào)房間的空調(diào)系統(tǒng)加濕。潔凈室凈化工程的稍置和各項(xiàng)設(shè)施的設(shè)計(jì)均必須符合消防、防火的要求，應(yīng)按國(guó)家的有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)、規(guī)范進(jìn)行設(shè)計(jì)，由于潔凈室凈化工程內(nèi)的平面和空間扣置持殊、走道曲折等特點(diǎn)，在進(jìn)行各項(xiàng)技術(shù)設(shè)施的系統(tǒng)設(shè)計(jì)、設(shè)備配置和材質(zhì)選樣時(shí)，加特別注意按規(guī)定選用符合要求的系統(tǒng)、沒(méi)備和材質(zhì)。