汽車配件納米鍍膜設(shè)備

工藝特點(diǎn)

（1）廣泛應(yīng)用于金屬涂層、陶瓷涂層、無機(jī)涂層材料等。

（2）在產(chǎn)量方面，從單件到大批量皆可。

（3）有質(zhì)量優(yōu)勢，沉積溫度低，薄膜成份易控，膜厚與淀積時(shí)間成正比，均勻性，重復(fù)性好，臺階覆蓋性優(yōu)良。

（4）工具涂層的生產(chǎn)效率不如PVD，具體取決于特定技術(shù)要求和輔助工藝。

化學(xué)氣相沉積曾是真空技術(shù)廣泛用于陶瓷沉積的種技術(shù)，特別是對工具涂層更是這樣。

鍍膜機(jī)工藝在太陽能運(yùn)用方面的運(yùn)用當(dāng)需求有用地運(yùn)用太陽熱能時(shí)，就要思考選用對太陽光線吸收較多、而對熱輻射等所導(dǎo)致的損耗較小的吸收面。太陽光譜的峰值大約在波長為2-20μm之間的紅外波段。

CVD法具有如下特點(diǎn)：可在大氣或低于大氣壓下進(jìn)行沉積金屬、合金、陶瓷和化合物涂層，能在形狀復(fù)雜的基體上或顆粒材料上沉積涂層。涂層的化學(xué)成分和結(jié)構(gòu)較易準(zhǔn)確控制，也可制備具有成分梯度的涂層。

涂層與基體的結(jié)合力高，設(shè)備簡單操作方便，但它的處理溫度一般為900-1200℃，工件被加熱到如此高的溫度會產(chǎn)生以下問題：

（1）工件易變形，心部組織惡化，性能下降。

（2）有脫碳現(xiàn)象，晶粒長大，殘留奧氏體增多。

（3）形成ε相和復(fù)合碳化物。

（4）處理后的母材必須進(jìn)行淬火和回火。

（5）不適用于低熔點(diǎn)的金屬材料。

不銹鋼基材真空物理氣相沉積鍍工藝，生產(chǎn)“黃金卷”

這種鋼卷以不銹鋼為基材，通過PVD（真空物理氣相沉積鍍工藝）制造成所需顏色，該技術(shù)廣泛應(yīng)用于航空航天、電子、光學(xué)、機(jī)械、建筑、輕工、冶金、材料等領(lǐng)域，可制備具有耐磨、耐腐蝕、裝飾、導(dǎo)電、絕緣、光導(dǎo)、壓電、磁性、潤滑、超導(dǎo)等特性的膜層。日常生活中以手表的外殼、表帶為常見，另外就是家電、裝飾材料等。

金屬箔(尤其是銅箔)上的化學(xué)氣相沉積(CVD)是目前制備大面積高質(zhì)量石墨烯薄膜具發(fā)展前景的方法生長在銅箔上的石墨烯薄膜中為什么會出現(xiàn)“adlayers”，發(fā)現(xiàn)薄膜中的碳雜質(zhì)直接導(dǎo)致adlayers的成核和生長。通過使用飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜和燃燒分析，發(fā)現(xiàn)商業(yè)銅箔有‘過量的碳’，尤其是在表面附近，深度約為300納米。