真空鍍用的涂料有哪些?實際生產(chǎn)中如何完善這些涂料應(yīng)用中的涂裝技術(shù)?下面對此重點討論。在裝飾性真空鍍膜中，依靠完善的涂料涂裝技術(shù)，可取得耐磨性強、結(jié)合力好、光亮度高的鍍層。

1.涂層的作用和要求

裝飾性真空鍍的涂層一般分為底涂層和面涂層兩種。為了滿足產(chǎn)品的不同技術(shù)要求，可施涂底涂層和面涂層，或在面涂層上再施涂彩色涂層、保護涂層等。這些涂層的主要作用是：

提高膜層的結(jié)合力。采用相同的鍍膜方法，在塑料基體上施涂底涂層再真空鍍膜，可提高膜層的結(jié)合力。

降低鍍件表面的粗糙度，提高光亮度。一般鍍件表面都存在微觀不平整度，不一定厚度涂料的整平性，可以填補鍍件表面的缺陷，使鍍件表面達(dá)鏡面平整度。

能保護金屬膜層。真空鍍膜層一般只有100nm，膜層的耐磨性和抗變色能力較差，施涂面涂層后，鍍膜層與外界不直接接觸，對鍍膜層能起保護作用。

真空鍍膜的方法很多，計有：(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣達(dá)到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面，凝結(jié)而成薄膜。(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對面，把惰性氣體(如)通入已抽空的室內(nèi)，保持壓強約1.33～13.3Pa，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發(fā)輝光放電，帶正電的離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學(xué)氣相沉積：通過熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物，獲得沉積薄膜的過程。(4)離子鍍：實質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結(jié)合，兼有兩者的工藝特點。表6-9列出了各種鍍膜方法的優(yōu)缺點。真空鍍中對底涂層的要求：①對鍍件與鍍膜層有良好的接觸性能與較高的結(jié)合力，熱膨脹系數(shù)相差小，不起反應(yīng)，流平性能好。

Parylene在電子產(chǎn)品領(lǐng)域的優(yōu)點:

惡劣環(huán)境下線路板保護涂層，列入美軍標(biāo)MIL-I-46058C；滿足IPC-CC-830B

涂敷過程中不存在任何液態(tài)，無普通液體防護涂層的難以避免的流掛，氣孔、厚薄不均等嚴(yán)重缺陷；

*水分子透過率極低，僅為常見的有機硅樹脂的千分之一；

*聚合生長的成膜方式阻止了離子在涂層和基板界面的擴散，消除了常見的涂層下枝狀腐蝕。

*表面憎水特性進(jìn)一步降低潮濕和離子污染的不利影響；

*滲入芯片與基板間的微細(xì)間隙（甚至達(dá)10μm），提供完整的保護；

*大幅增強芯片-基板間導(dǎo)線（25μm粗細(xì)）的連接強度；

 釹鐵硼稀土磁性材料是一種問世不久的新型強磁材料。近年來在小型馬達(dá)、汽車電子，工具、揚聲器、電力工具等方面應(yīng)用發(fā)展很快。但釹鐵硼稀土磁性材料弱點是容易被空氣中的水分及氧氣所腐蝕，因此必須有一個安全可靠的防護涂層釹鐵硼稀土磁性材料才有使用價值。目前國內(nèi)常用兩種方法進(jìn)行防護，一種是傳統(tǒng)的電鍍工藝在 鐵硼磁性材料表面鍍上鎳、鋅或錫、金等。這些涂層有時會影響磁性材料的表磁等特性，有的在鹽霧試驗時仍不能對釹鐵硼磁性材料提供有效的防護。另一種方法是用環(huán)氧樹脂材料進(jìn)行電泳涂敷，但電泳涂敷時工件表面必須有一掛點，掛點的修補不僅費工費時，而且質(zhì)量難以保證，而Parylene涂層技術(shù)可控制涂層厚度進(jìn)行無支點全涂敷防護。Parylene又是一種透氧、透水汽率非常低的高分子薄膜材料，Parylene涂敷稀土磁性材料的技術(shù)和產(chǎn)品，目前國外小型釹鐵硼稀土磁性材料都已采用Parylene進(jìn)行防護。鍍膜機真空機械選擇了解被抽氣體成分，氣體中含不含可凝蒸氣，有無顆?；覊m，有無腐蝕性等。