鍍膜技術(shù)在平板顯示器中的應(yīng)用

所有各類(lèi)平板顯示器都要用到各種類(lèi)型的薄膜，而且?guī)缀跛蓄?lèi)型的平板顯示器件都需要使用ITO膜，以滿(mǎn)足透明電器的要求。可以毫不夸張的說(shuō)：沒(méi)有薄膜技術(shù)就沒(méi)有平板顯示器件。

鍍膜技術(shù)在太陽(yáng)能利用方面的應(yīng)用

當(dāng)需要有效地利用太陽(yáng)熱能時(shí)，就要考慮采用對(duì)太陽(yáng)光線(xiàn)吸收較多、而對(duì)熱輻射等所引起的損耗較小的吸收面。太陽(yáng)光譜的峰值大約在波長(zhǎng)為2-20μm之間的紅外波段。

鍍膜技術(shù)在防偽技術(shù)中的應(yīng)用

　　防偽膜種類(lèi)很多，從使用方法可分為反射式和透射式；從膜系附著方式可以分為直接鍍膜式、間接鍍膜式或間接鍍膜剪貼式。

鍍膜技術(shù)在光學(xué)儀器中的應(yīng)用

　　人們熟悉的光學(xué)儀器有望遠(yuǎn)鏡、顯微鏡、照相機(jī)、測(cè)距儀，以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等，它們都離不開(kāi)鍍膜技術(shù)，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

真空鍍膜設(shè)備是制作真空條件應(yīng)用較為廣泛的一種設(shè)備。

根據(jù)加工產(chǎn)品要求的各異，真空腔大小不同，腔體由不銹鋼材料制作，要求不生銹、堅(jiān)實(shí)等，真空腔各部分有連接閥，用來(lái)連接各抽氣泵浦。

蒸發(fā)系統(tǒng)主要是指成膜裝置部分，鍍膜機(jī)器的成膜裝置很多，有電阻加熱、電子槍蒸發(fā)、磁控濺射、射頻濺射、離子鍍等多種方式。

一臺(tái)完整的真空鍍膜機(jī)是由多部分系統(tǒng)組成的，每個(gè)系統(tǒng)可以完成不同的功能。

真空鍍膜設(shè)備膜層灰暗及發(fā)黑：(1)真空度低于0.67Pa。應(yīng)將真空度提高到0.13-0.4Pa。(2)氣的純度低于99.9％。應(yīng)換用純度為99.99％的氣。(3)充氣系統(tǒng)漏氣。應(yīng)檢查充氣系統(tǒng)，排除漏氣現(xiàn)象。(4)底漆未充分固化。應(yīng)適當(dāng)延長(zhǎng)底漆的固化時(shí)間。(5)鍍件放氣量太大。應(yīng)進(jìn)行干燥和封孔處理。真空鍍膜設(shè)備膜層表面光澤暗淡：(1)底漆固化不良或變質(zhì)。怎么保證真空鍍膜設(shè)備鍍膜效果與質(zhì)量真空鍍膜主要指一類(lèi)需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜。應(yīng)適當(dāng)延長(zhǎng)底漆的固化時(shí)間或更換底漆。(2)濺射時(shí)間太長(zhǎng)。應(yīng)適當(dāng)縮短。(3)濺射成膜速度太快。應(yīng)適當(dāng)降低濺射電流或電壓。

材料經(jīng)過(guò)真空鍍膜機(jī)鍍膜之前，都是要進(jìn)行清洗的，也就是大家目前常說(shuō)的真空清洗工藝，真空鍍膜機(jī)真空清洗一般定義為在真空工藝進(jìn)行前，先從工件或系統(tǒng)材料表面清除所不期望的物質(zhì)的過(guò)程。真空零部件的表面清洗處理是很必要的，因?yàn)橛晌廴疚锼斐傻臍怏w、蒸氣源會(huì)使真空系統(tǒng)不能獲得所要求的真空度。膜厚決定于蒸發(fā)專(zhuān)源的蒸發(fā)速率和時(shí)間（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關(guān)。此外，由于污染物的存在，還會(huì)影響真空部件連接處的強(qiáng)度和密封性能。