真空鍍膜技術(shù)具有下列優(yōu)點(diǎn)：

薄膜和基體選材廣泛，薄膜厚度可進(jìn)行控制，薄膜與基體結(jié)合強(qiáng)度好，薄膜牢固。

鍍膜技術(shù)都需要一個(gè)特定的真空環(huán)境，以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或?yàn)R射過程中所形成蒸氣分子的運(yùn)動，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾。

由于在真空條件下制膜，所以薄膜的純度高、密實(shí)性好、表面光亮不需要再加工，這就使得薄膜的力學(xué)性能和化學(xué)性能比電鍍膜和化學(xué)膜好。

真空鍍膜技術(shù)一般分為兩大類，即物理氣相沉積技術(shù)和化學(xué)氣相沉積技術(shù)。

物理氣相沉積技術(shù)是指在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，直接沉積到基體表面上的方法。

真空鍍膜有哪些優(yōu)勢呢？

簡單清潔，不吸塵。

使塑料外表有導(dǎo)電性，改善美觀，外表光滑，金屬光澤彩色化，大大提高裝飾性。

改進(jìn)外表硬度，原塑膠外表比金屬軟而易受損害，經(jīng)過真空鍍膜技術(shù)，硬度及耐磨性大大添加。

削減吸水率，鍍膜次數(shù)愈多，吸水率下降，制品不易變形，提高耐熱性。

物理氣相沉積技術(shù)是指在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，直接沉積到基體表面上的方法。化學(xué)氣相沉積技術(shù)是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體，借助氣相作用或基體表面上的化學(xué)反應(yīng)，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學(xué)氣相沉積、低壓化學(xué)氣相沉積的等離子化學(xué)氣相沉積等。

真空鍍膜可以使原料具有許多新的、好的物理和分析化學(xué)特征。

真空鍍膜是應(yīng)用物理分析化學(xué)方法，在固體表面涂上特征的表面涂層，使固體表面具有耐磨性、耐高溫性、耐腐蝕性、耐氧化性、電磁波輻射性、導(dǎo)電性、吸磁性、電纜護(hù)套和設(shè)計(jì)裝飾性等優(yōu)于固體原料本身的優(yōu)點(diǎn)，提高產(chǎn)品質(zhì)量、提高產(chǎn)品使用期限、節(jié)約能源、獲得顯著性經(jīng)濟(jì)效益。派瑞林涂層材料