專利權窮竭

　　專利權窮竭也稱為專利權用盡，是指專利權人對合法投放市場的專利產品或者依照專利方法直接獲得的產品，不再具有控制或者銷售控制權或者支配權。

??專利權窮竭的原由

??(1)專利權人通過實施其專利，包括銷售、進口其專利產品，或者銷售、進口依照該專利方法直接獲得的產品，或者許可他人實施上述行為后，即已獲取了利益，其專利權已經(jīng)實現(xiàn)。

??(2)如果在該產品被合法制造、進口并予以售出以后，專利權人仍可以對該產品享有權利，將不利于專利產品的流通和利用，從而對產業(yè)進步及科技發(fā)展造成損害，有違專利立法本意。

??專利權窮竭的注意事項

??(1)專利權窮竭是針對某一件具體專利產品而言的，即使用或者銷售某一件具體的專利產品或者依據(jù)專利方法直接獲得的產品是否侵權?

??(2)專利權窮竭所針對的具體產品，只能是由專利權人制造或者經(jīng)專利權人許可制造而合法投放市場的專利產品或者依據(jù)專利方法直接獲得的產品，不法侵權產品不發(fā)生專利權窮竭問題。

??(3)專利權窮竭不是專利權終止，即任何一件具體專利產品之權利的窮竭，不會導致專利權本身的終止或者無效。

專利許可(Patent Licensing)是指專利權人將其所擁有的專利技術許可他人實施的行為。在專利許可中，專利權人成為許可方，允許實施的人成為被許可方，許可方與被許可方要簽訂專利實施許可合同。這種合同只允許被許可方實施許可方的發(fā)明創(chuàng)造專利技術，而不轉移許可方的專利所有權。

??專利許可的種類：按照許可范圍及實施權大小，可以分為：獨占許可合同、排他許可合同、普通許可合同等形式，此外還有交叉許可和分許可。

??獨占許可：指許可方規(guī)定被許可方在一定條件下獨占實施其專利的權利，這種許可的特點是許可人本人也不能使用這項專利，同時也不能向任何第三方授予同樣內容的許可。

??排他許可：指許可人不在該地域內再與任何第三方簽訂同樣內容的許可合同，但許可人本身仍有權在該地域內使用該項專利，這種許可也稱獨i家許可。

??普通許可：也稱非獨占性許可，它是最常見的專利許可方式，即許可人在允許被許可人使用其專利的同時，本人仍保留著該地域內使用其專利的權利，同時也可以將使用權在授予被許可人以外的第三人。

??交叉許可：也稱互惠許可或相互許可，是指當事人雙方相互允許對方使用各自的專利。

??分許可:也稱再許可、從屬許可，指原專利許可合同的被許可人經(jīng)許可人的事先同意在一定的條件下將專利權或者其中一部分權利在授權給第三方在一定條件下使用。未經(jīng)許可人事先同意，被許可人無權與任何第三方簽訂分許可合同。

疊加式侵權

　　指在他人已經(jīng)侵犯外觀設計專利權的產品上添加新的圖案、形狀或色彩等之后，通過整體觀察和綜合判斷，仍然侵犯同一外觀設計專利權的情形。

??疊加式侵權特征：

??他人制造的產品已經(jīng)侵犯了別人的外觀設計專利權;

??第三人在該侵權產品上添加新的圖案、形狀或者色彩等，形成新的產品外觀;

??該新產品仍然侵犯了同一外觀設計專利權。

??疊加式侵權與相關概念的區(qū)別

??疊加式侵權與直接侵權的相同之處在于兩者均侵犯了外觀設計專利權。但直接侵權是制造者制造的產品直接侵犯了 外觀設計專利權，而疊加式侵權是在他人已經(jīng)侵犯外觀設計專利權的產品上，添加新的圖案、形狀或色彩，并與原有的圖案、形狀、色彩等結合在一起，形成新的產 品外觀。因此，從侵權行為分析，疊加式侵權至少包括了兩個直接侵權行為，其實施侵權行為的民事主體至少是兩個以上。

??疊加式侵權與間接侵權是 兩種不同的侵權行為，間接侵權是指行為人自己沒有直接侵犯專利權，卻誘導、慫恿、唆使他人侵犯專利權，促進或促成了直接侵權行為的發(fā)生，從而在客觀上損害 了專利權人的利益。因此，間接侵權并沒有直接侵犯外觀設計專利權，而疊加式侵權卻直接侵犯了外觀設計專利權。

??疊加式侵權與重復侵權亦不相 同。重復侵權是指行為人在被行政機關認定其行為構成侵權后或者在法i院判決構成侵權后，仍然實施同一侵權行為。因此，重復侵權的實施主體只有一個，而且其前 后實施的侵權行為是相同的。但疊加式侵權的實施主體至少兩個以上，而且他們所實施的侵權行為是不相同的。

專利規(guī)避設計

　　專利規(guī)避設計是指為規(guī)避專利保護范圍，重新研發(fā)、設計涉及專利侵權的產品或產品中的某些特征，在設計思路上重于如何利用不同之構造來達成相同之功能，使其產品具有差異化的特征，避免觸犯他人權利。

??專利規(guī)避設計是一項源于美國的合法競爭行為。最初專利規(guī)避設計只是當做專利系統(tǒng)工作的一種方式，旨在鼓勵發(fā)明和促進大眾文化的進步?？梢远x為企業(yè)為了避開其他競爭者公司的專利權利要求的阻礙或者襲i擊而進行的新設計繞道發(fā)展的設計過程。專利規(guī)避由法律、專利策略等方面的規(guī)避已經(jīng)轉化為規(guī)避設計，通過重新對技術方案的改進來實現(xiàn)與現(xiàn)有專利的保護范圍不同的新技術。