電鍍鎳光亮劑發(fā)展至今,經(jīng)歷了四個階段

電鍍鎳光亮劑發(fā)展至今,經(jīng)歷了四個階段:階段為采用無機光亮劑,如鎘鹽等;第二階段為與糖精;第三階段為與環(huán)氧化合物的縮合物與糖精;第四階段為中間體復配的次級光亮劑與作為初級光亮劑的柔軟劑,即所謂第四代鍍鎳光亮劑。與糖精配合,能得到白亮鍍層,但整平性差,鍍層無“肉頭”。的還原產(chǎn)物1,4一和正丁烷等殘留在鍍液中,使鍍液性能惡化且很難用活性碳除去。于是開發(fā)出將與、進行催化縮合的BE、PK、791等產(chǎn)品,它們的整平性比好得多,大處理周期也較長。

鍍鉻層的摩擦系數(shù)小，特別是干摩擦系數(shù)，在所有的金屬中是的，所以鍍鉻層具有很好的耐磨性。5、鍍鉻層能長久保持反射能力，在可見光范圍內(nèi)，鉻的反射能力約為65%，介于銀（88%）和鎳（55%）之間，但是鉻不變色，能長久保持其反射能力而優(yōu)于銀和鎳，所以他的亮度保持長久。由于鍍鉻層的優(yōu)良性能，人們把它用作防護一裝飾性鍍層體系的外表層（裝飾鉻）和功能鍍層（硬鉻）兩種。

電鍍鉻鍍液應用廣的鍍鉻液是以硫酸根作為催化劑的鍍液，鍍液中僅含有鉻酐和硫酸，成分簡單，使用方便。鉻酐的濃度在150～450g/L之間變化。根據(jù)鉻酐濃度的不同，可分為高濃度（350～500g/L）、中濃度（150～250g/L）和低濃度（50～150g/L）鍍鉻液。低濃度的鍍鉻液電流，鉻層的硬度也高，但覆蓋能力較差，主要用于功能性電鍍，如鍍硬鉻、耐磨鉻等；高濃度鍍液穩(wěn)定，導電性好，電解時只需較低的電壓，覆蓋能力較稀溶液好，但電流效率較低，主要用于裝飾性鍍鉻及復雜件鍍鉻。除這種鍍液外還有一些其它的鍍液，比如添加了加、氧化鎂、硫酸鍶、稀土金屬等的特殊鍍液，還有三價鉻等。

真空鍍可以分為真空蒸鍍、真空離子鍍

真空鍍，就是在真空條件下，通過蒸餾或濺射等方式在金屬表面沉積各種金屬和非金屬薄膜的表面處理工藝。通過真空鍍的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時具有速度快、附著力好、污染物少等優(yōu)點。按照工藝不同，真空鍍可以分為真空蒸鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍。電鍍是一種電化學和氧化還原的過程。以鍍鎳為例：將金屬制件浸在金屬鹽（NiSO4）的溶液中作為陰極，金屬鎳板作為陽極，接通直流電源后再制件上就會沉積出金屬鍍鎳層。