鍍鈦(diamondlikecarbon，簡稱DLC)是一種在微觀結(jié)構(gòu)上含有金剛石成分的涂層。構(gòu)成DLC的元素為碳。碳原子和碳原子之間的不同結(jié)合方式，使其終產(chǎn)生不同的物質(zhì)：金剛石(Diamon-碳碳以sp健的形式結(jié)合；類金剛石(DLC)-碳碳以s3和sp2健的形式結(jié)合；石墨(Graphit-碳碳以sp2健的形式結(jié)合。

PVD鍍膜PVD鍍膜是物理蒸汽沉積。不銹鋼鍍膜，也叫不銹鋼鈦/鋯鍍膜，就是在一個真空容器內(nèi)，在不銹鋼表面形成鈦/鋯化合物的離子膜層，膜層能在室外環(huán)境下長年。工作原理在高溫，真空鈦金爐內(nèi)，鈦、鋯金屬。借用惰性氣體的輝光放電使金屬或合金蒸氣離子化，離子經(jīng)電場加速而沉積帶負電荷的不銹鋼板上，從而形成色澤豐富艷麗的金屬膜。

鍍層選擇的幾點要求：零件的工作環(huán)境及要求絕大多數(shù)零件的電鍍要求有良好的防護性，環(huán)境因素是金屬材料發(fā)生腐蝕的根本條件，如大氣環(huán)境(工業(yè)性大氣、海洋性大氣)、工作溫度、濕度、介質(zhì)性質(zhì)、力學條件等，所以環(huán)境因素是選擇鍍層首先考慮的問題。與此同時，還應考慮電性能、磁性能等特定的功能。零件的種類與性質(zhì)基體材料的種類和物理、化學性質(zhì)對選擇鍍層的種類和結(jié)構(gòu)有著很大的影響，如鋼鐵材料在一般性大氣中的防護鍍層應采用鍍鋅層、陽極性鍍層、簡單結(jié)構(gòu)。由于銅、鎳、鉻相對于鋼鐵都是陰極性鍍層，要求鍍層應有較小的孔隙率和適當?shù)暮穸?，而且還應根據(jù)材料的種類選擇與其相應的前處理工藝，才可以獲得與集體結(jié)合良好的鍍層。

PVD（PhysicalVaporDepsition）即物理氣相沉積，是當前國際上廣泛應用的表面處理技術。其工作原理就是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用的同時把蒸發(fā)物或其反應物沉積在基底上。它具有沉積速度快和表面清潔的特點，特別具有膜層附著力強、繞射性好、可鍍材料廣泛等特點。