無論監(jiān)控儀精度怎樣，它也只能控制真空室里單點(diǎn)位置的膜厚，一般來講是工件架的中間位置。如果真空電鍍設(shè)備此位置的膜厚不是均勻的，那么遠(yuǎn)離中心位置的基片就無法得到均勻的厚度。雖然屏蔽罩能消除表現(xiàn)為長期的不均勻性，但有些膜厚度的變化是由蒸發(fā)源的不穩(wěn)定或膜材的不同表現(xiàn)而引起的，所以幾乎是不可能消除的，但對真空室的結(jié)構(gòu)和蒸發(fā)源的恰當(dāng)選擇可以使這些影響較小。

Parylene是美國Union Carbide Co.公司在六十年代推出的一種氣相沉積高分子聚合物材料，由獨(dú)特的真空氣相沉積工藝制備，能涂敷到各種形狀的表面，號(hào)稱“無孔不入”，被業(yè)內(nèi)稱為好的防潮、防霉、防腐、防鹽霧的特殊防護(hù)涂層。Parylene可分為N型、C型、D型、F型、HT型等多種類型

現(xiàn)在，系統(tǒng)的平均尺寸規(guī)格已經(jīng)在降低，而應(yīng)用小規(guī)格設(shè)備進(jìn)行光學(xué)鍍膜的生產(chǎn)也已經(jīng)轉(zhuǎn)變成為純技術(shù)問題。

真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，包括真空離子蒸發(fā)鍍膜機(jī)、磁控濺鍍膜機(jī)射、MBE分子束外延鍍膜機(jī)和PLD激光濺射沉積鍍膜機(jī)等很多種。真空鍍膜機(jī)對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，蒸發(fā)或?yàn)R射出的成膜材料是在一般磁控濺射條件下與待鍍工件形成膜的過程。無論是金屬、合金、化合物、陶瓷還是有機(jī)物，都可以氣相沉積各種金屬膜和介質(zhì)膜，不同的材料可以同時(shí)氣相沉積得到多層膜。

隨著科技和經(jīng)濟(jì)的提升，各種類型各種鍍膜工藝的真空鍍膜設(shè)備在不斷的增加，其功能也越來越完善。

真空鍍膜設(shè)備普遍應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)，在與待鍍工件形成薄膜的過程中，可以地測量和控制蒸發(fā)或?yàn)R射成膜材料的膜厚，從而保證膜厚的均勻性。磁控鍍膜機(jī)的真空鍍膜技術(shù)的特點(diǎn)主要包括真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍、真空束沉積和化學(xué)氣相沉積。