磁控濺射鍍膜設備鍍膜優(yōu)勢

磁控濺射鍍膜機有很多種類型，有中頻的，也有直流的。在生活中應用也是非常的廣泛，如：手提電腦、手機殼、電話、無線通訊、試聽電子、工具、表殼、手機殼、五金等。它的優(yōu)勢也是非常的凸顯.

磁控濺射鍍膜設備配置了等離子體處理裝置，磁控濺射陰極和電阻蒸發(fā)裝置等，設備沉積速率快，鍍層附著力好，鍍層細膩致密，表面光潔度高，且均勻性一致性良好;該機實現(xiàn)鍍膜工藝全自動化控制，裝載量大，工作可靠，合格率高，生產(chǎn)成本低，綠色環(huán)保。該設備主要廣泛應用于電腦殼、手機殼、家用電器等行業(yè)，可鍍制金屬膜、合金膜、復合膜層、透明(半透明)膜、不導電膜、EMI電磁屏蔽膜等。

磁控濺射鍍膜機將磁控濺射技術(shù)和真空蒸發(fā)技術(shù)結(jié)合在同一真空鍍膜設備里，既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子賤出并部分離化沉積在基材成膜，同時又可利用在真空中以電阻加熱將金屬鍍料熔融并讓其氣化再沉積在基材上成膜，增加了設備的用途和靈活性。該設備應用于手機殼等塑料表面金屬化，應用于不導電膜和電磁屏蔽膜沉積。

真空PVD鍍膜機涂層在中有哪些應用?

PVD涂層可提供更好的邊緣保持力，因此涂層手術(shù)器械仍保持清晰。對于其他設備，它們可以減少配套不銹鋼部件之間的磨損，并有助于防止氧化和腐蝕。通常是四種PVD涂層。的是氮化鈦（TiN），其厚度范圍為0.0001至0.0002英寸，維氏硬度范圍為2,400至2,600Hv，以及金色。第二種常見的涂層是鋁鈦氮化物（AlTiN），通常稱為黑色氮化物或黑色鈦涂層。它的厚度范圍為0.0001至0.0002英寸，硬度范圍為4,000至4,200Hv，炭黑色表面。另外兩種涂料是氮化鉻（CrN）和Alpha。CrN的厚度范圍為0.0001至0.0005英寸，硬度范圍為2,200至2,400Hv，銀色表面處理。Alpha是一種多層涂層，其頂層具有氮化鋯（ZrN）并產(chǎn)生銀-金色。它的厚度范圍為0.0001至0.0002英寸，硬度，范圍為4,400至4,600Hv。由于其更高的硬度，潤滑性和耐磨性，這種涂層可以比TiN長兩到四倍。

多弧離子鍍膜機的運用

多弧離子鍍膜機用于不一樣層次五金商品，通常的修建五金件、鎖具，用多弧離子鍍膜設備可擔任，中高層次商品如表帶、表殼、眼鏡框、手機殼、高爾夫球具、衛(wèi)浴潔具、飾品等，通常選用電弧/中頻（ 直流）磁控濺射復合型鍍膜設備，依據(jù)裝載量選用巨細機型。該設備可鍍黃金色、玫瑰金、咖啡色、棕色、古銅色、藍色等裝修膜。

蒸發(fā)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)與工作原理介紹

蒸發(fā)系統(tǒng)由蒸發(fā)源、送絲機構(gòu)、水冷擋板等組成。HD1500-12型高真空卷繞鍍膜機所用的蒸發(fā)源為氮化硼蒸發(fā)舟，它具有耐腐蝕、耐熱性能優(yōu)良、蒸鍍層純度高等特點。采用電阻加熱方式，由送絲機構(gòu)將鋁線連續(xù)不斷地送到對應的蒸發(fā)舟表面，使它們迅速加熱得以蒸發(fā)。

蒸發(fā)舟的兩端各裝在正、負電極上，采用端部嵌入夾緊方式，縫隙墊以石墨紙。電極均采用內(nèi)部水冷結(jié)構(gòu)，避免發(fā)熱燒毀。每組蒸發(fā)源的功率可通過操作面板上的電位器進行單獨調(diào)節(jié)，也可以整體調(diào)節(jié)。

送絲機構(gòu)包括交流電機、減速器、摩擦壓輪組等，交流電機聯(lián)接減速器通過鏈輪驅(qū)動串接在傳動軸上的每組壓輪，實現(xiàn)鋁絲的同步輸送，送絲的速度由變頻器控制，可通過操作面板上的加速或減速按鈕進行調(diào)節(jié)，速度值在觸摸屏中顯示。

水冷擋板由固定的蒸發(fā)槽和活動擋板組成，兩者都要通水冷卻。蒸發(fā)槽安裝在底板上，主要用于阻止熱量向四周及下面擴散，活動擋板在蒸發(fā)槽的上面，通過真空室外部的氣動裝置可將其打開或關(guān)閉，它是用于在蒸發(fā)舟進行預加熱和卷繞系統(tǒng)未啟動或運轉(zhuǎn)速度較慢時隔絕熱源對基材的輻射，避免基材燒損。