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中頻離子鍍膜設(shè)備廠家詢問(wèn)報(bào)價(jià)「多圖」

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發(fā)布時(shí)間:2020-11-05 12:44  









鍍膜機(jī)的日常使用及維護(hù)

教你鍍膜機(jī)的日常使用及維護(hù) 1.例行保養(yǎng)生產(chǎn)設(shè)備中發(fā)現(xiàn)了一個(gè)不好的跡象,立即解決。鍍膜機(jī)不要認(rèn)為這油定期更換,等待維修時(shí)間,轉(zhuǎn)子泵嚴(yán)重磨損可能。例如,軸承的一些卡工件轉(zhuǎn)架,更換軸承,然后等到它完全打破了,可真是個(gè)大問(wèn)題,鍍膜機(jī)可能會(huì)導(dǎo)致轉(zhuǎn)架電機(jī)燒毀等。 2.定期檢修,鍍膜機(jī)有人會(huì)問(wèn)一個(gè)日常的維護(hù)也需要定期維護(hù)?事實(shí)上,每個(gè)設(shè)備都有它自己的生命,如2年油擴(kuò)散泵的使用壽命,提前更換,鍍膜機(jī)在生產(chǎn)階段沒(méi)有問(wèn)題。只要你把日常維護(hù)和定期檢修,對(duì)設(shè)備的使用壽命,在同一時(shí)間的延長(zhǎng),生產(chǎn)過(guò)程中的失效概率大大減少,提高了生產(chǎn)效率。 3,不要盲目拆卸。鍍膜機(jī)問(wèn)題的真空部分是困難的,而許多公司不泄漏檢測(cè)器,并將逐步找到。


真空鍍膜機(jī)真空器件的常用檢漏方法

真空鍍膜機(jī)真空器件的常用檢漏方法 依據(jù)電真空器材的結(jié)構(gòu)特色及丈量精度要求,常用的有兩種檢漏辦法,即氦罩法和噴吹法(這兩種檢漏辦法具體介紹可見(jiàn):氦罩法和噴吹法的氦質(zhì)譜檢漏儀檢漏常見(jiàn)辦法)。檢漏時(shí),先用氦罩法進(jìn)行總漏率的測(cè)定,當(dāng)總漏率超出答應(yīng)值后再用噴吹法進(jìn)行漏孔的認(rèn)位。 氦罩法是被檢件與檢漏儀銜接抽真空到達(dá)檢漏狀況后,用一個(gè)充溢氦氣的查驗(yàn)罩,把被檢件全體或部分的表面面包圍起來(lái),如圖4所示。查驗(yàn)罩充氦時(shí)先將罩內(nèi)空氣排出再充氦,以確保罩內(nèi)氦濃度盡可能挨近100百分之,被檢件上任何地方有走漏。 檢漏儀都會(huì)有漏率值改變,顯示出漏率值。氦罩時(shí)刻也要繼續(xù)3~5倍檢漏儀呼應(yīng)時(shí)刻。ASM192T2氦質(zhì)譜檢漏儀反應(yīng)時(shí)刻小于0.5s,因而氦罩時(shí)刻30s即可。氦罩法可方便地測(cè)定被檢件總漏率,不會(huì)漏掉任何一處漏點(diǎn),但不能確認(rèn)漏孔方位。 噴吹法是將被檢件與儀器的真空體系相連,對(duì)被檢件抽真空后用噴槍向漏孔處吹噴氦氣。當(dāng)有漏孔存在時(shí),氦氣就經(jīng)過(guò)漏孔進(jìn)入質(zhì)譜儀被檢測(cè)出,噴吹法彌補(bǔ)了氦罩法不能定位的缺點(diǎn)。


磁控鍍膜機(jī)的濺射方式有哪些

磁控鍍膜機(jī)的濺射方式有哪些 下面小編就來(lái)給大家講講磁控鍍膜設(shè)備的濺射方式。 主要的磁控濺射鍍膜設(shè)備可以根據(jù)其特征分為以下四種:(1)直流濺射;(2)射頻濺射;(3)磁控濺射;(4)反應(yīng)濺射.另外,利用各種離子束源也可以實(shí)現(xiàn)薄膜的濺射沉積. 現(xiàn)在的直流濺射(也叫二級(jí)濺射)較少用到,原因是濺射氣壓較高,電壓較高,濺射速率小,膜層不穩(wěn)定等缺點(diǎn). 直流濺射發(fā)展后期,人們?cè)谄浔砻婕由洗艌?chǎng),磁場(chǎng)束縛住自由電子后,以上缺點(diǎn)均有所改善,也是現(xiàn)階段廣泛應(yīng)用的一種濺射方法. 而后又有中頻濺射,提高了陰極發(fā)電速率,不易造成放電、靶材等現(xiàn)象. 而射頻濺射是很高頻率下對(duì)靶材的濺射,不易放電、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密,附著力良好.


真空鍍膜設(shè)備的相關(guān)特性是什么呢?

真空鍍膜設(shè)備的相關(guān)特性是什么呢? 1.真空鍍膜設(shè)備沉積材料:可沉積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無(wú)法沉積的低電位金屬,通以反應(yīng)氣體和合金靶材更是可以沉積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層,而且可以根據(jù)需要設(shè)計(jì)涂層體系. 2.真空鍍膜設(shè)備節(jié)約金屬材料:由于真空涂層的附著力、致密度、硬度、耐腐蝕性能等相當(dāng)優(yōu)良,沉積的鍍層可以遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于常規(guī)濕法電鍍鍍層,達(dá)到節(jié)約的目的. 3.真空鍍膜設(shè)備無(wú)環(huán)境污染:由于所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過(guò)等離子體沉積在工件表面,沒(méi)有溶液污染,所以對(duì)環(huán)境的危害相當(dāng)小。


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