PVD真空鍍膜設備蒸發(fā)系統(tǒng)工作方式

PVD真空鍍膜設備蒸發(fā)系統(tǒng)主要指成膜裝置部分，PVD鍍膜機的成膜裝置很多的，PVD鍍膜有電阻加熱、射頻濺射、離子鍍等多種方式。PVD鍍膜電阻蒸發(fā)根據(jù)其結(jié)構(gòu)和工作原理是目前為止應用多的，PVD鍍膜廣泛的蒸發(fā)方式，PVD鍍膜也是應用時間長的蒸發(fā)方式。

下面介紹PVD鍍膜電阻加熱和電子槍蒸發(fā)的方式：

PVD鍍膜將鎢片做成船狀，然后安裝在兩個電極中間，再熱傳導給PVD鍍膜材料，當鎢舟的熱量高于PVD鍍膜材料熔點的時候，材料就升華或者蒸發(fā)了，PVD鍍膜由于操作方便，結(jié)構(gòu)簡單，成本低廉。PVD鍍膜電子槍蒸發(fā)是到目前為止應用多的一種蒸發(fā)方式，PVD鍍膜可以蒸發(fā)任何一種PVD鍍膜料。

將鍍膜材料放在坩堝里面，PVD鍍膜將蒸發(fā)源制作成燈絲形狀，PVD鍍膜由于燈絲的材料是鎢，形成了一股電子束，PVD鍍膜由于電子束溫度非常高，PVD鍍膜可以熔化任何鍍膜藥材凝結(jié)下來。

至成真空十多年來專業(yè)從事各種真空鍍膜應用設備制造，多年來致力于研發(fā)和生產(chǎn)真空鍍膜機，以新技術(shù)不斷制造出滿足市場需要的真空電鍍設備，為客戶提供定制化的工藝解決方案和機器。

真空鍍膜設備多弧離子鍍膜工藝不僅避免了傳統(tǒng)表面處理的不足，且各項技術(shù)指標都優(yōu)于傳統(tǒng)工藝，在五金、機械、化工、模具、電子、儀器等領(lǐng)域有廣泛應用。催化液和傳統(tǒng)處理工藝相比，在技術(shù)上有哪些創(chuàng)新？

1、多弧離子鍍膜不用電、降低了成本、成本僅為多弧離子鍍膜鎳的二分之一，真空鍍膜機多弧離子鍍膜鉻的三分之一，不銹鋼的四分之一，可反復利用，大大降低了成本。

2、多弧離子鍍膜易操作、工藝簡單、把金屬基件浸入兌好的液體中“一泡即成”，需要再加工時不經(jīng)任何處理。

3、多弧離子鍍膜無污染，無毒無味，無三廢排放，屬國家環(huán)保產(chǎn)品技術(shù)。

4、多弧離子鍍膜好處理、使用方便；形狀復雜的金屬基件都能處理。

5、多弧離子鍍膜硬度大，硬度增強、催化液泡過的金屬基件硬度是多弧離子鍍膜工藝的幾倍。

6、多弧離子鍍膜不會生銹，催化液浸泡過的金屬基件已滲透表皮里面，不起皮、不脫落。

真空鍍膜的膜層厚度如何測量？

在使用真空鍍膜機鍍膜之后，為了需要可能會要測量膜層的厚度，測量膜層的厚度用什么方法呢?

直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM)，這種儀器可以直接驅(qū)動蒸發(fā)源，通過PID控制循環(huán)驅(qū)動擋板，保持蒸發(fā)速率。

只要將儀器與系統(tǒng)控制軟件相連接，它就可以控制整個的鍍膜過程。但是(QCM)的精準度是有限的，部分原因是由于它監(jiān)控的是被鍍膜的質(zhì)量而不是其光學厚度。

此外雖然QCM在較低溫度下非常穩(wěn)定，但溫度較高時，它會變得對溫度非常敏感。在長時間的加熱過程中，很難阻止傳感器跌入這個敏感區(qū)域，從而對膜層造成重大誤差。

光學監(jiān)控是高精密鍍膜的的優(yōu)選監(jiān)控方式，這是因為它可以更精準地控制膜層厚度(如果運用得當)。

精準度的改進源于很多因素，但根本的原因是對光學厚度的監(jiān)控。