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上海磁控多弧復(fù)合鍍膜設(shè)備來電咨詢

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發(fā)布時間:2020-11-03 11:42  









柔性電子卷繞真空鍍膜設(shè)備


HCFLC系列卷繞鍍膜設(shè)備為各種各樣的柔性和可穿戴電子產(chǎn)品,傳感器,RFID標(biāo)簽,智能玻璃,智能包裝等提供了一種非常有競爭力和成本效益高的薄膜涂層技術(shù)。高質(zhì)量低電阻率銅或TCO層和結(jié)構(gòu)的應(yīng)用,在滿足當(dāng)今和未來市場需求的同時,成功地彌合了生產(chǎn)率和多功能性之間的差距。

HCFLC系列是生產(chǎn)和研發(fā)的良好選擇。幾乎無限的可能性,在安排多達(dá)六組可旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)器和機(jī)器的能力,應(yīng)用大量的現(xiàn)場測量傳感器,使機(jī)器能夠在生產(chǎn)環(huán)境中生產(chǎn),同時又是非常靈活和靈活的,當(dāng)作為一個研發(fā)機(jī)器使用。

這也使得該機(jī)成為諸如ITO膜、柔性印刷電路板(FPCB)、LOW-E或智能玻璃等應(yīng)用的。可旋轉(zhuǎn)磁控管,涂層寬度為2000毫米,可能的襯底輥直徑為500毫米,是高生產(chǎn)率的基礎(chǔ)。

此外,相鄰工藝段之間的可選氣體分離允許在一個過程中沉積各種各樣的金屬和電介質(zhì)層。

除了能夠在非反應(yīng)濺射工藝的同時運(yùn)行反應(yīng)濺射工藝外,HCFLC系列還可以配備各種原位傳感器,用于連續(xù)、準(zhǔn)確地監(jiān)測所需的物理層特性,如層電阻率、反射率或透射比。


真空鍍膜設(shè)備需要的環(huán)境要求

真空鍍膜設(shè)備需要的環(huán)境要求 真空鍍膜設(shè)備要在真空條件下工作,因此該設(shè)備要滿足真空對環(huán)境的要求。真空對環(huán)境的要求,一般包括真空設(shè)備對所處實(shí)驗(yàn)室(或車間)的溫度、空氣中的微粒等周圍環(huán)境的要求,和對處于真空狀態(tài)或真空中的零件或表面要求兩個方面。 這兩個方面是有密切聯(lián)系的。周圍環(huán)境的好壞直接影響真空設(shè)備的正常使用;而真空設(shè)備的真空室或裝入里面的零件是否清洗,又直接影響設(shè)備的性能。如果空氣中含有大量的水蒸氣和灰塵,在真空室沒有經(jīng)過清洗的情況下用油封機(jī)械泵去抽氣,要達(dá)到預(yù)期的真空度很難的。眾所周,油封式機(jī)械泵不宜抽除對金屬有腐蝕性、對真空油其反應(yīng)的以含有顆粒塵埃的氣體。水蒸氣為可凝性氣體,當(dāng)大量抽除可凝性氣體時,對泵油的污染會更加嚴(yán)重,結(jié)果使泵的極限真空下降,破壞了泵的抽氣性能。


適合于真空對潔凈環(huán)境的要求

適合于真空對潔凈環(huán)境的要求 工業(yè)環(huán)境中的粉塵是以粉狀體、眼無題、粉塵來區(qū)分的。粉狀體是粉末或固體顆粒的集合或分散狀態(tài)的物質(zhì)。所謂粉末是指微小的固體顆粒的集合,而顆粒是指能夠一個一個計數(shù)的微小物質(zhì)。煙霧體是以固體或液體的微小顆粒呈浮狀態(tài)存在于氣體中的物質(zhì)體系。物質(zhì)無論是固體還是液體,凡是呈顆粒狀態(tài)均可統(tǒng)稱為塵粒。以塵粒直徑的大小來確定空氣清潔度的標(biāo)準(zhǔn),從而定制出潔凈室的等級。不僅適合于有潔凈要求的工業(yè)部門,也適合于真空對潔凈環(huán)境的要求。


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