真空電鍍?cè)O(shè)備膜厚的不均勻問(wèn)題

無(wú)論監(jiān)控儀精度怎樣，它也只能控制真空室里單點(diǎn)位置的膜厚，一般來(lái)講是工件架的中間位置。如果真空電鍍?cè)O(shè)備此位置的膜厚不是均勻的，那么遠(yuǎn)離中心位置的基片就無(wú)法得到均勻的厚度。雖然屏蔽罩能消除表現(xiàn)為長(zhǎng)期的不均勻性，但有些膜厚度的變化是由蒸發(fā)源的不穩(wěn)定或膜材的不同表現(xiàn)而引起的，所以幾乎是不可能消除的，但對(duì)真空室的結(jié)構(gòu)和蒸發(fā)源的恰當(dāng)選擇可以使這些影響化。

在過(guò)去幾年中，越來(lái)越多的用戶要求鍍膜系統(tǒng)制造廠家提供高性能的小規(guī)格、簡(jiǎn)便型光學(xué)鍍膜系統(tǒng)，同時(shí)，用戶對(duì)性能的要求不僅沒(méi)有降低，反而有所提高，特別是在薄膜密度和保證吸水后光譜變化化等方面。

現(xiàn)在，系統(tǒng)的平均尺寸規(guī)格已經(jīng)在降低，而應(yīng)用小規(guī)格設(shè)備進(jìn)行光學(xué)鍍膜的生產(chǎn)也已經(jīng)轉(zhuǎn)變成為純技術(shù)問(wèn)題。因此，選用現(xiàn)代化光學(xué)鍍膜系統(tǒng)的關(guān)鍵取決于對(duì)以下因素的認(rèn)真考慮：對(duì)鍍膜產(chǎn)品的預(yù)期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保證高度一致性工藝所必需的所有技術(shù)因素。

五金裝飾膜離子鍍膜機(jī)有哪些特點(diǎn)

該設(shè)備是一種、無(wú)污染的離子鍍膜設(shè)備，具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設(shè)備操作簡(jiǎn)單、成本低、生產(chǎn)量大的優(yōu)點(diǎn)。五金裝飾膜離子鍍膜機(jī)是一種、無(wú)污染的離子鍍膜設(shè)備，具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設(shè)備操作簡(jiǎn)單、成本低、生產(chǎn)量大的優(yōu)點(diǎn)。

真空電弧離子鍍膜的原理是基于冷陰極自持弧光放電等離子體蒸發(fā)、電離鍍料，結(jié)合脈沖偏壓技術(shù)，提高沉積粒子能量和活性，增強(qiáng)膜層的各項(xiàng)性能。它不僅能在金屬制品表面進(jìn)行鍍膜而且能在非金屬制品表面上進(jìn)行鍍膜；可以鍍金屬膜，氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻及鎳、鉻、銅等化合物膜、多層超硬膜、多元化合物膜，還可以鍍氮化鈦摻金膜等。電弧離子鍍膜廣泛應(yīng)用于工具、模具的超硬涂層，汽車(chē)輪轂、高爾夫球具、鐘表、酒店用品、衛(wèi)浴潔具、燈具、眼鏡鏡架、五金制品、陶瓷和玻璃等的裝飾涂層等領(lǐng)域。

至成鍍膜機(jī)廠家著力改進(jìn)圓形電弧蒸發(fā)源，同時(shí)著力開(kāi)發(fā)矩形平面電弧蒸發(fā)源，均已裝配新機(jī)。

光學(xué)鍍膜機(jī)維護(hù)與保養(yǎng)當(dāng)濃度電解試驗(yàn)真空鍍膜設(shè)備不變

當(dāng)濃度電解試驗(yàn)真空鍍膜設(shè)備不變，鍍膜機(jī)改變電流密度、電解液的溫度，光滑（硬）的鉻可以得到三種不同的晶格層，即灰色的臉，明亮和乳白色鉻層。

1）灰色鉻層在低的溫度下獲得的，鍍膜機(jī)在高電流密度下的鉻層。從高高的程度（HV=uoo），韌性的方法，一個(gè)網(wǎng)狀圖案，色彩濃烈，黑暗水晶。用測(cè)量工具，鍍鉻。

2）亮鉻層是在介質(zhì)溫度得到的鉻層，鍍膜機(jī)小電流密度。高硬度（HV=800），韌性好，耐磨，內(nèi)應(yīng)力小，密集的網(wǎng)格線，細(xì)晶，表面光亮。適用于磨損零件的修復(fù)。

2）乳白鉻層是在較高的溫度下得到的鉻層，鍍膜機(jī)電流密度低，硬度低的塑料涂層機(jī)（HV=400-500），塑性好，無(wú)網(wǎng)狀，細(xì)晶，像白色的，適用于沖擊載荷的零件增加尺寸和鍍裝飾鉻。

多孔（松孔鍍鉻，鍍鉻層）鍍膜機(jī)與點(diǎn)狀鉻層及鉻層溝狀兩種，可用電化學(xué)方法和機(jī)械方法。多孔鍍鉻吸附潤(rùn)滑油的性能。因此，具有更好的耐磨性。

當(dāng)預(yù)定線路鍍鉻陰極上的鍍鉻部件，這將導(dǎo)致陽(yáng)極，鍍膜機(jī)把人格的酸溶液中電解（電解放電），通過(guò)DC，鉻層表面涂有一層薄而均勻的！

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