東莞真空電鍍廠玻璃真空電鍍

東莞真空電鍍廠的工藝和環(huán)境要求：一般真空鍍膜的做法是在材料上先噴一層底漆，再做電鍍．因為材料是塑料件，在注塑時會殘留空氣泡，有機氣體，而在組織時會吸入空氣中的水分．另外，因為塑料表面不敷平展，直接電鍍的工件表面不光滑，光芒低，金屬感差，并且會呈現氣泡，水泡等不良環(huán)境．噴上一層底漆今后，會構成一個光滑平展的表面，并且杜絕了塑料本身存在的氣泡水泡的產生，使得電鍍的效果得以閃現．

     使用舉例： PC料耐溫130度，只要“真空鍍膜 UV油光固”才可抵達耐130度高溫央求。而一般的水電鍍是無法對PC料舉辦電鍍的！

真空電鍍中濺射鍍膜優(yōu)點淺析

    以濺射的方法進行真空鍍膜，由于其鍍膜方式的不同，同樣的鍍材所制備的薄膜效果也會不一樣的，雖然肉眼無法看出來，但確實擁有一定的優(yōu)勢。 膜厚穩(wěn)定性好，由于濺射鍍膜膜層的厚度與靶電流和放電電流具有很大的關系，電流越高，濺射效率越大，相同時間內，所鍍膜層的厚度相對就大了，因為只要把電流數值控制好，需要鍍多厚，或者多薄的膜層都可以了。

電鍍是現代手表中常見的表殼裝飾方法，電鍍技術崛起于七十年代，因電鍍均勻牢固，比包金成本低且不易脫落，又無鍛黃殼變色、銹蝕的可能，所以很快將包金淘汰出市場。

       PVD是（物理氣相沉積）的縮寫，是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質及其反應產物沉積在工件上。