真空鍍膜主要利用輝光放電(glowdischarge)將氣(Ar)離子撞擊靶材du(target)表面,靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜來(lái)的好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍?cè)O(shè)備幾乎都使用強(qiáng)力磁鐵將電子成螺旋狀運(yùn)動(dòng)以加速靶材周圍的氣離子化,造成靶與氣離子間的撞擊機(jī)率增加,提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電(glowdischarge)將氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面，電漿中的陽(yáng)離子會(huì)加速?zèng)_向作為被濺鍍材的負(fù)電極表面，這個(gè)沖擊將使靶材的物質(zhì)飛出而沉積在基板上形成薄膜。

真空鍍膜不銹鋼真空鍍膜加工

真空鍍膜的優(yōu)點(diǎn)

TiN

中文名:氮化鈦;

顏色:金色;

硬度:2300HV;

摩擦系數(shù):0.23VSNi;

zui高工作溫度:580℃;

優(yōu)點(diǎn):增加表面硬度、減少摩擦力;可低溫涂層，適合低溫零件;避免刀口之積屑現(xiàn)象;廣泛應(yīng)用於鋼料成型加工。

  電鍍加工廠告訴你電鍍是什么？，希望對(duì)大家有所幫助。

  電鍍：1：利用電解工藝，將金屬或合金沉積在鍍件表面，形成金屬鍍層的表面處理技術(shù)。 所屬學(xué)科：電力（一級(jí)學(xué)科）；配電與用電（二級(jí)學(xué)科） 定義2：利用電解在制件表面形成均勻、致密、結(jié)合良好的金屬或合金沉積層的過(guò)程。 所屬學(xué)科：機(jī)械工程（一級(jí)學(xué)科）；表面工程（二級(jí)學(xué)科）；電鍍與化學(xué)鍍（三級(jí)學(xué)科）