真空涂層技術(shù)發(fā)展到了今天還出現(xiàn)了PCVD(物理化學(xué)氣相沉積)、MI-CVD(中溫化學(xué)氣相沉積)等新技術(shù)，各種涂層設(shè)備、各種涂層工藝層出不窮。目前較為成熟的PVD方法主要有多弧鍍與磁控濺射鍍兩種方式。多弧鍍設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單，容易操作。多弧鍍的不足之處是，在用傳統(tǒng)的DC電源做低溫涂層條件下，當(dāng)涂層厚度達(dá)到0.3μm時(shí)，沉積率與反射率接近，成膜變得非常困難。而且，薄膜表面開始變朦。多弧鍍另一個(gè)不足之處是，由于金屬是熔后蒸發(fā)，因此沉積顆粒較大，致密度低，耐磨性比磁控濺射法成膜差。可見，多弧鍍膜與磁控濺射法鍍膜各有優(yōu)劣，為了盡可能地發(fā)揮它們各自的優(yōu)越性，實(shí)現(xiàn)互補(bǔ)，將多弧技術(shù)與磁控技術(shù)合而為一的涂層機(jī)應(yīng)運(yùn)而生。在工藝上出現(xiàn)了多弧鍍打底，然后利用磁控濺射法増厚涂層，后再利用多弧鍍達(dá)到終穩(wěn)定的表面涂層顏色的新方法。

       對于在太空飛行的航天器來講，真空是一個(gè)天然的、現(xiàn)實(shí)的外部環(huán)境，為真空絕緣應(yīng)用提供了的自然條件。通過派瑞林真空氣相鍍膜保護(hù)技術(shù)，對實(shí)際的產(chǎn)品進(jìn)行了絕緣設(shè)計(jì)及工藝驗(yàn)證。結(jié)果表明，采用真空氣相沉積工藝在電極表面涂敷一定厚度的Parylene涂層，可以更好地滿足產(chǎn)品在真空環(huán)境下的絕緣防護(hù)性能要求。

       真空絕緣是基于空氣擊穿放電的機(jī)理，不同于固體或液體絕緣，因其本身的”真空”，缺少足夠的可以移動(dòng)的離子，也不會(huì)受到材料老化影響，不會(huì)受到機(jī)械、熱、化學(xué)、濕度、輻射等因素的影響，這是在應(yīng)用時(shí)的天然形成的許多優(yōu)點(diǎn)，正是基于這些優(yōu)點(diǎn)，分析認(rèn)為更符合在空間環(huán)境中應(yīng)用的高電壓電子產(chǎn)品。

       比較各種產(chǎn)品在惡劣環(huán)境下的性能，也可以讓用戶根據(jù)使用條件來進(jìn)行產(chǎn)品選擇。例如：腐蝕性氣體環(huán)境對保形涂層、聚氨酯樹脂和硅樹脂的影響。通過將三者暴露于混合氣體環(huán)境后，檢查LED燈珠的光通量百分比降低。這些結(jié)果清楚地說明了為環(huán)境選擇正確產(chǎn)品的重要性。雖然保形涂層在腐蝕性氣體環(huán)境中表面絕緣電阻不會(huì)劣化，但是對于LED燈珠而言，它不能保護(hù)LED燈珠，因?yàn)樗梢宰寶怏w通過薄涂層并穿透LED燈珠，從而隨時(shí)間推移，其性能降低。