自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)概述

帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能，大到6'旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，可支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 Torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 Torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。的厚度分辨率帶觀察視窗的腔門易于上下的載片基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)控制帶密碼保護(hù)功能的多級(jí)訪問控制完全的安全聯(lián)鎖功能預(yù)真空鎖以及自動(dòng)晶圓片上/下的載片。

帶有14”立方形不銹鋼腔體，4個(gè)2”的磁控管，DC直流和RF射頻電源。 在選配方面，350 l/s渦輪分子泵，額外的磁控管和襯底加熱功能。

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