脈沖激光沉積介紹

脈沖激光沉積系統(tǒng)具有獨特的優(yōu)越性。它可以把激光燒蝕技術和我們所擁有的其他沉積技術（如RF源）集成于一臺設備上?？梢陨L各種可能的材料。

● 配有6個旋轉(zhuǎn)靶臺，實現(xiàn)多層薄膜結構生長。

● 可與準分子激光和Yag激光相連。

● 在線監(jiān)控儀器做為可選件，為客戶提供高質(zhì)量的工藝信息反饋。

● 裝載室不但可以裝取樣品，還可以與其他生長設備或分析設備相連。

應用

● 多元素復合氧化物

● 高溫超導材料

● 磁性材料、金屬材料

● 低蒸汽壓材料

● MEMS

期望大家在選購脈沖激光沉積時多一份細心，少一份浮躁，不要錯過細節(jié)疑問。想要了解更多脈沖激光沉積的相關資訊，歡迎撥打圖片上的熱線電話！??！

脈沖激光沉積的自動化

想要了解更多脈沖激光沉積的相關內(nèi)容，請及時關注沈陽鵬程真空技術有限責任公司網(wǎng)站或撥打圖片上的熱線電話。

自動化裝置：

控制樣品溫度和旋轉(zhuǎn)

靶臺的位置控制

靶臺旋轉(zhuǎn)

氣體控制

速率及厚度計算（利用QCM輸出）

激光束掃描（可選）

激光束屏蔽控制

自動泵抽和充氣

差分泵抽結構

RHEED分析（可選）

裝載室壓強監(jiān)控（可選）

脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD)

產(chǎn)品具有如下基本特點：

1. 系統(tǒng)可根據(jù)客戶的特殊要求設計，操作簡單方便。可使用大尺寸靶材生長大面積薄膜。

2. 電拋光腔體，主腔呈方形，其前部是鉸鏈門，方便更換基底和靶材

3. 雙軸磁性耦合旋轉(zhuǎn)靶材操縱器，可手動或計算機控制選定靶材。磁力桿傳送基底到基底旋轉(zhuǎn)器上，可手動或電動降低旋轉(zhuǎn)器，實現(xiàn)簡單快速地更換

4. 主腔室預留備用的腔口，如用于觀察靶材和基底，安裝原子吸收或發(fā)射光譜儀、原位橢偏儀、離子槍或磁控濺射源、殘留氣體分析器和離子探針或其他的元件等等

5. 系統(tǒng)使用程序化的成像鏈(Optical Train) ，包括聚焦透鏡、反射鏡臺、動力反射鏡支撐架和智能視窗等，無需頻繁地校準光學組件。在激光通過大直徑靶材時可使其光柵掃描化（rastering），以獲得均勻性的薄膜。智能視窗不僅可準確監(jiān)視沉積過程中的靶材激光注入量（OTLF），而且可長時間保持激光束光路的清潔

6. 系統(tǒng)使用特有的黑體基底加熱設計，高溫下（950°C）可與銀膠兼容使用

沈陽鵬程真空技術有限責任公司本著多年脈沖激光沉積系統(tǒng)行業(yè)經(jīng)驗，專注脈沖激光沉積系統(tǒng)研發(fā)定制與生產(chǎn)，先進的脈沖激光沉積系統(tǒng)生產(chǎn)設備和技術，建立了嚴格的產(chǎn)品生產(chǎn)體系，想要更多的了解，歡迎咨詢圖片上的熱線電話！?。?