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300D三源有機蒸發(fā)鍍膜機
主要用途:
特別適合OPV/鈣鈦礦/無機薄膜太陽能電池、半導體、有機EL、OLED顯示研究與開發(fā)領域。
系統(tǒng)組成:
主要由真空室系統(tǒng)蒸發(fā)室、蒸發(fā)源系統(tǒng)、樣品臺系統(tǒng)、 真空抽氣及測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、膜厚測試 系統(tǒng)、電控系統(tǒng)組成。
技術指標:
極限真空度6.7×10-5Pa,系統(tǒng)漏率:1×10-7PaL/S; 恢復真空時間:40分鐘可達6.6×10 Pa(短時間暴露 大氣并充干燥氮氣后開始抽氣)
樣品臺:尺寸為4英寸平面樣品;
蒸發(fā)源:3套
4套擋板系統(tǒng):擋板共有3套,動密封手動控制;
氣路系統(tǒng):質量流量控制器1路
石英晶振膜厚控制儀:膜厚測量范圍0-999999?
可選分子泵組或者低溫泵組合渦旋干泵抽氣系統(tǒng)
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多源蒸發(fā)系統(tǒng)介紹
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系統(tǒng)主要用來生長EL OEL分子有機電致發(fā)光器件薄膜的研究工作
該類設備為雙室?guī)痔紫浣Y構的有機、無機、多源有機、無機氣相分子沉積設備,采用直線式結構,由一個金屬材料生長、氧化物生長室、一個有機材料生長室和一個手套箱組成,金屬材料生長和氧化物生長室以及進樣室/氧化物生長室之間通過空氣鎖聯(lián)接,樣品通過帶遠程手控盒功能的電動磁力耦合裝置在兩個生長室之間手動傳遞??蛇x手套箱。電阻蒸發(fā)鍍膜機的結構以及特點結構和特點:結構可為立臥式雙開門結構,成膜速率快,色澤鮮亮,膜層不易受污染,可獲得致密性好、純度高、膜厚均勻的膜層,不產(chǎn)生廢液、廢水,可避免對環(huán)境污染,屬環(huán)保設備?! ?/span>