磁控濺射鍍膜設(shè)備鍍膜優(yōu)勢

磁控濺射鍍膜機(jī)有很多種類型，有中頻的，也有直流的。在生活中應(yīng)用也是非常的廣泛，如：手提電腦、手機(jī)殼、電話、無線通訊、試聽電子、工具、表殼、手機(jī)殼、五金等。它的優(yōu)勢也是非常的凸顯.

磁控濺射鍍膜設(shè)備配置了等離子體處理裝置，磁控濺射陰極和電阻蒸發(fā)裝置等，設(shè)備沉積速率快，鍍層附著力好，鍍層細(xì)膩致密，表面光潔度高，且均勻性一致性良好;該機(jī)實(shí)現(xiàn)鍍膜工藝全自動化控制，裝載量大，工作可靠，合格率高，生產(chǎn)成本低，綠色環(huán)保。該設(shè)備主要廣泛應(yīng)用于電腦殼、手機(jī)殼、家用電器等行業(yè)，可鍍制金屬膜、合金膜、復(fù)合膜層、透明(半透明)膜、不導(dǎo)電膜、EMI電磁屏蔽膜等。

磁控濺射鍍膜機(jī)將磁控濺射技術(shù)和真空蒸發(fā)技術(shù)結(jié)合在同一真空鍍膜設(shè)備里，既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子賤出并部分離化沉積在基材成膜，同時又可利用在真空中以電阻加熱將金屬鍍料熔融并讓其氣化再沉積在基材上成膜，增加了設(shè)備的用途和靈活性。該設(shè)備應(yīng)用于手機(jī)殼等塑料表面金屬化，應(yīng)用于不導(dǎo)電膜和電磁屏蔽膜沉積。

真空磁控濺射鍍膜機(jī)機(jī)械泵的分類

1.機(jī)械泵的分類：機(jī)械泵有很多種，常用的有滑閥式(此首要使用于大型設(shè)備)、活塞往復(fù)式、定片式和旋片式(此現(xiàn)在使用廣泛，這篇文章首要介紹)四種類型。

2.機(jī)械泵是從大氣開端作業(yè)的，它的首要參數(shù)有極限真空，抽氣速率，此為規(guī)劃與選用機(jī)械泵的重要依據(jù)。單級泵能夠?qū)⑷萜鲝拇髿獬榈?.0*10-1PA的極限真空，雙級機(jī)械泵能夠?qū)⑷萜鲝拇髿獬榈?.7*10-2帕，甚至更高。

抽氣速率，是指旋片泵按額外轉(zhuǎn)數(shù)工作時，單位時間內(nèi)所能排出氣體的體積，能夠用下公式核算：Sth=2nVs=2nfsLfs表明吸氣完畢時空腔截面積，L表明空腔長度，系數(shù)表明轉(zhuǎn)子每旋轉(zhuǎn)一星期有兩次排氣進(jìn)程，Vs表明當(dāng)轉(zhuǎn)子處于水平位置的時分，吸氣完畢，此刻空腔內(nèi)的體積大，轉(zhuǎn)速為n。

機(jī)械泵排氣的效果還與電機(jī)的轉(zhuǎn)速及皮帶的松緊度有聯(lián)系，當(dāng)電機(jī)的皮帶比較松，電機(jī)轉(zhuǎn)速很慢的時分，機(jī)械泵的排氣效果也會變差，所以要常常養(yǎng)護(hù)，點(diǎn)檢，機(jī)械泵油的密封效果也需求常常點(diǎn)檢，油過少，達(dá)不到密封效果，泵內(nèi)會漏氣，油過多，把吸氣孔阻塞，無法吸氣和排氣，通常，在油位在線下0.5厘米即可。

3.機(jī)械泵常常被用來抽除枯燥的空氣，但不能抽除含氧量過高、有性和腐蝕性的氣體，機(jī)械泵通常被用來抽除性的氣體，但是對水氣沒有好的效果，所以它不能抽除水氣。

旋片泵中起首要效果的部件是定子、轉(zhuǎn)子等，轉(zhuǎn)子在定子里面但與定子不一樣心軸，象兩個內(nèi)切圓，轉(zhuǎn)子槽內(nèi)裝有兩片彈片，兩彈片中心裝有繃簧，確保了彈片緊緊貼在定子的內(nèi)壁。

鍍膜行業(yè)發(fā)展的趨勢

當(dāng)今鍍膜行業(yè)制作方式主要有兩種，一種是化學(xué)氣象沉積，一種是化學(xué)鍍膜（CVD），一種是物理氣象沉積，也就是真空鍍膜（PVD）。

化學(xué)鍍膜是把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反應(yīng)劑或液態(tài)反應(yīng)所需其他氣體引入反應(yīng)室，在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成薄膜的過程。在化學(xué)薄膜的過程中，容易產(chǎn)生溶液污染，如果鍍層表面雜質(zhì)多，鍍出來的效果不好。

化學(xué)鍍膜需要的反應(yīng)溫度很高，一般要控制在1000℃左右，但很多基體材料是無法受此高溫，及時硬質(zhì)合金，雖然能經(jīng)受高溫，但在化學(xué)鍍膜制作的環(huán)境下由于高溫也會造成晶粒粗大，引起脆性相，性能變壞。如果在硬質(zhì)合金上鍍TiN，晶體擴(kuò)散出來的碳會與溶液發(fā)生反應(yīng)形成脫碳層，該層韌性差，抗彎強(qiáng)度低，造成刀具使用壽命縮短。

真空鍍膜機(jī)很好的解決了化學(xué)鍍膜產(chǎn)生的一系列問題。真空鍍膜是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電技術(shù)，利用其他放電是靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面，解決了化學(xué)鍍膜中的溶液污染問題，不會產(chǎn)生有毒或污染物質(zhì)，鍍出來的膜層硬度更高，耐磨性和腐蝕性好，性能更穩(wěn)定。真空鍍膜工藝處理的溫度可以控制在150℃~500℃以下，適用于多種基體材料，可制備多姿多彩的膜層，鍍制硬質(zhì)合金刀具可使其壽命提高2~10倍。

真空電鍍設(shè)備的監(jiān)控方法

真空電鍍設(shè)備的監(jiān)控方法 1、目視監(jiān)控：使用眼睛監(jiān)控，因?yàn)楸∧ぴ谏L的過程中，由于干涉現(xiàn)象會有顏色變化，我們就是根據(jù)顏色變化來控制膜厚度的，此種方式有一定的誤差，所以不是很準(zhǔn)確，需要依靠經(jīng)驗(yàn)。 2、極值監(jiān)控法：當(dāng)膜厚度增加的時候其反射率和穿透率會跟著起變化，當(dāng)反射率或穿透率走到極值點(diǎn)的時候，就可以知道鍍膜之光學(xué)厚度ND是監(jiān)控波長（入）的四分之一的整倍數(shù)。但是極值的方法誤差比較大，因?yàn)楫?dāng)反射率或者透過率在極值附近變化很慢，亦就是膜厚ND增加很多，R/T才有變化。反映比較靈敏的位置在八分之一波長處。 3.定值監(jiān)控法：此方法利用停鍍點(diǎn)不在監(jiān)控波長四分之一波位，然后由計算機(jī)計算在波長一時總膜厚之反射率是多少，此即為停止鍍膜點(diǎn)。