濕式研磨與干法研磨的區(qū)別

濕法研磨與干法研磨的區(qū)別 干法研磨指進(jìn)行研磨作業(yè)時(shí)物料的含水量不超過(guò)4%，而濕法研磨則是將原料懸浮于載體液流中進(jìn)行研磨，適當(dāng)添加分散劑等助劑幫助研磨進(jìn)行。濕法研磨機(jī)時(shí)物料含水量超過(guò)50%時(shí)，可克服粉塵飛揚(yáng)問(wèn)題。在食品加工上，研磨的物料經(jīng)常作為浸出的預(yù)備操作，使組分易于溶出，故頗適于濕式研磨法。但濕法操作一般消耗能量較干法操作的大，同時(shí)設(shè)備的磨損也較嚴(yán)重。機(jī)械干法研磨較難獲取亞微米級(jí)別的粉體，化學(xué)制粉成本高，因此濕法研磨成為制備超細(xì)粉體的一個(gè)重要手段。從實(shí)際應(yīng)用來(lái)看，這兩者之間并沒(méi)有的優(yōu)劣之分，要根據(jù)實(shí)際的產(chǎn)品特點(diǎn)及經(jīng)濟(jì)效益來(lái)選取適當(dāng)?shù)奶幚矸椒ā?/p>

研磨機(jī)配用拋光盤的技巧

研磨機(jī)配用拋光盤的技巧 研磨機(jī)分為單面和雙面，主要用于LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。在拋光過(guò)程中少不了一種耗材，那便是拋光盤，拋光盤關(guān)系到工件表面的精度。因此，選用拋光盤有一定的技巧，下面為大家小結(jié)3點(diǎn)。 首先不能使用廢棄且已經(jīng)磨損變形的拋光盤，一些小企業(yè)為了節(jié)省成本就會(huì)這樣做。其次盡量使用耐磨性能好的拋光盤，拋光盤的材質(zhì)有多種，不同材質(zhì)的耐磨性能各不相同，選擇材質(zhì)較好的拋光盤，在耐磨損性能方面也有一定的保證。 后，如果有耐磨性能很好但是稍微出現(xiàn)了磨損，建議采用人工修整拋光盤的平面，這樣可避免耗材的浪費(fèi)。

研磨機(jī)變速控制方法的三個(gè)階段

研磨機(jī)變速控制方法的三個(gè)階段 研磨機(jī)是用于超精密研磨加工的設(shè)備，在提高我國(guó)的研磨技術(shù)具有重要的發(fā)展意義。像東研研磨機(jī)主要分兩大類，一類是單面研磨拋光機(jī)，另一類是雙面研磨拋光機(jī)，這兩者的差別在于單面和雙面的工作性能。研磨機(jī)的速度控制是加工過(guò)程中不可忽視的操作細(xì)節(jié)，主要分為三個(gè)階段，下面我們就對(duì)這三個(gè)階段的變速控制進(jìn)行簡(jiǎn)單的了解。 研磨加工的三個(gè)階段分別是開始階段、正式階段以及結(jié)束階段。開始階段的變速控制特點(diǎn)是磨具升速旋轉(zhuǎn)，正式階段的變速控制特點(diǎn)是恒速旋轉(zhuǎn)，結(jié)束階段便是磨具降速旋轉(zhuǎn)。在研磨加工開始階段，人為控制磨具轉(zhuǎn)速的加速度從零由慢到快地增大，當(dāng)磨具轉(zhuǎn)速升到正式研磨速度的一半時(shí)，加速度的變化出現(xiàn)一個(gè)拐點(diǎn)，控制磨具轉(zhuǎn)速的加速度由值由快到慢地減小，直到磨具轉(zhuǎn)速達(dá)到正式的研磨速度，磨具轉(zhuǎn)速的加速度降為零。