從光刻機(jī)還是蝕刻機(jī)，至少可以看得出來國(guó)產(chǎn)芯片已經(jīng)取得了非常大的成就。

中微半導(dǎo)體7nm蝕刻機(jī)的量產(chǎn)，直接邁入世界行列，5nm蝕刻機(jī)也在實(shí)驗(yàn)階段。而光刻機(jī)方面已邁入22納米。

我們也相信如果光刻機(jī)與蝕刻機(jī)紛紛取得進(jìn)展，也將成為如果挑戰(zhàn)臺(tái)積電、三星、英特爾背后大霸主的有力籌碼。至少“科技自立”下，實(shí)現(xiàn)芯片研發(fā)國(guó)產(chǎn)化、加工制造本土化。那個(gè)時(shí)候，將會(huì)造福諸如華為、小米、OV等國(guó)產(chǎn)手機(jī)。

金屬蝕刻就是先在基板上用絲印或網(wǎng)印的方式把基板上需要保護(hù)的部位遮住，然后用化學(xué)或電化學(xué)方式侵蝕掉不需要的部位，后退去保護(hù)膜，得到制品的一種加工方式。

是生產(chǎn)標(biāo)牌、電路板、金屬工藝品、金屬版畫等過程中的關(guān)鍵步驟。的技術(shù)工業(yè)生產(chǎn)應(yīng)用是在印刷絲路版，因絲路板的絲線細(xì)而密，機(jī)械加工很難完成。不同的金屬材料，性質(zhì)各不相同，蝕刻圖型的精度不同，蝕刻深度不同，所采用的蝕刻方法、工藝以及所用蝕刻液的配方大不一樣，所采用的感光抗蝕材料也各不相同。

蝕刻

1、正式蝕刻

把堅(jiān)好膜的銅材放在入料口的合適位置，按下蝕刻開關(guān)，蝕刻機(jī)就開始對(duì)銅材進(jìn)行蝕刻， 根據(jù)要求控制好蝕刻機(jī)傳輸速度，從而控制蝕刻深度。

蝕刻略淺，只需蝕刻出圖案花紋即可，之后由蓋油工程師對(duì)蝕刻后的銅材進(jìn)行精準(zhǔn)定位的蓋油，以保護(hù)底紋，露出需打穿的部分，烘干、再進(jìn)一次蝕刻機(jī)，打穿成型。

2、褪膜

使用專用的退膜機(jī)進(jìn)行褪膜處理，褪膜后用清水沖洗干凈，再用烤箱烘干。

3、打磨

 專業(yè)打磨拋光人員對(duì)卡片純手工拋光打磨，要求一次一張，打磨后邊緣無任何水口位殘留毛刺，摸上去手感平滑順暢。

蝕刻機(jī)、金屬蝕刻機(jī)、金屬腐蝕機(jī)應(yīng)用范圍:

適用于、金屬標(biāo)牌，薄板金屬電子零部件（如手機(jī)金屬按鍵面板、金屬網(wǎng)片、精密過濾網(wǎng)等）加工制造。蝕刻精度：根據(jù)制版而定 制版0.2微米

蝕刻機(jī)（金屬蝕刻機(jī)、腐蝕機(jī)）特點(diǎn)：

1、采用傳動(dòng)裝置，霧化噴淋，結(jié)構(gòu)合理；加工尺寸長(zhǎng)度不限制，速度快、精度高；

2、使用方便：有效地設(shè)計(jì)噴淋與被蝕刻金屬板的有效面積和蝕刻均勻程度；蝕刻效果、速度和操作者的環(huán)境及方便程度等方面都有改善；藥液使用充分，大大降低生產(chǎn)成本；

3、蝕刻速度在傳統(tǒng)蝕刻法上大大提高：經(jīng)反復(fù)實(shí)驗(yàn)噴射壓力在1-2 kg/cm2的情況下被蝕刻工件上所殘留的蝕刻圬漬能被有效清處掉

4、可根據(jù)客戶要求，有針對(duì)的定制非標(biāo)尺寸和性能：如搖擺式、窗式、抽拉式、轉(zhuǎn)盤式、曲面式、傾斜面式、冷卻（空調(diào)冷卻或加水循環(huán)冷卻）等

5、可組配蝕刻線：顯影機(jī)、蝕刻機(jī)、退膜機(jī)

6、批量標(biāo)牌制作流水作業(yè)：配備自動(dòng)烘干烤箱，自動(dòng)雙面顯影機(jī)，自動(dòng)上色機(jī)，制版機(jī)，電鍍機(jī)。