在芯片制造領(lǐng)域，光刻機(jī)和蝕刻機(jī)一直是芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵。在業(yè)界有個(gè)形象的比喻，光刻機(jī)是芯片制造的魂，蝕刻機(jī)是芯片制造的魄，如果要想制造的芯片，這兩個(gè)東西都必須。

而在光刻機(jī)方面，與世界的7nm制程都相去甚遠(yuǎn)。不管三星、英特爾還是臺(tái)積電在芯片制程工藝方面如何去競(jìng)爭(zhēng)，但ASML終究是背后霸主，贏家，因?yàn)樗麄冋l(shuí)都離不開(kāi)他的EUV光刻機(jī)。而國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)還在路上，目前我國(guó)已經(jīng)能夠使用365納米波長(zhǎng)的光生產(chǎn)22納米工藝的芯片，這在全世界尚無(wú)先例，它也被稱為世界上首臺(tái)分辨力的紫外超分辨光刻裝備。這也意味著國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)可以使用低成本光源，實(shí)現(xiàn)了更高分辨力的光刻。

光刻技術(shù)，重頭戲是物理技術(shù)，光刻的前道工序如涂膠，后道如顯影，都是化學(xué)技術(shù)，對(duì)機(jī)器要求不算高。唯獨(dú)曝光工序才是難的，其中難又在于光刻機(jī)，也就是一只巨型單反相機(jī)，其光源和鏡頭，還有控制技術(shù)估計(jì)已經(jīng)是人類的極限了，巨難做?？涛g說(shuō)得形象點(diǎn)就是沿著曝光圖形刻槽，化學(xué)成分比較大，并不算十分關(guān)鍵的設(shè)備，我朝的刻蝕機(jī)技術(shù)還是很不錯(cuò)的。

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金屬蝕刻機(jī)作業(yè)原理及用途

金屬蝕刻機(jī)可加工化學(xué)蝕刻或CNC機(jī)械雕刻機(jī)不方便或難以加工的金屬工件，資料可所以鈦金屬、鈦合金或其他任何高硬度該耐酸性金屬。金屬蝕刻機(jī)的加工制造工藝在一般的制造類廣告公司中常常能夠看到。

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運(yùn)用各種金屬在蝕刻液中產(chǎn)生陽(yáng)極分別的原理，在不銹鋼、鈦金板、金、銀、銅、模具鋼等金屬上蝕刻圖像和文字。

蝕刻技能介紹

蝕刻技能分為濕式蝕刻與干式蝕刻，濕式蝕刻為常用，運(yùn)用特定的溶液與薄膜間所進(jìn)行的化學(xué)反應(yīng)來(lái)去除薄膜未被光阻掩蓋的部分，而抵達(dá)蝕刻的目的，這種蝕刻方法也便是所謂的濕式蝕刻。

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