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以上原料中除種外,第2,3,4種均含輕稀土(w(REO)≈98%),且以CeO2為主,w(CeO2)為48%~50%.我國具有豐富的資源,據(jù)測算,其工業(yè)儲(chǔ)量約為1800萬噸(以CeO2計(jì)),這為今后我國持續(xù)發(fā)展稀土拋光粉奠定了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ),也是我國獨(dú)有的一大優(yōu)勢,并可促進(jìn)我國稀土工業(yè)繼續(xù)高速發(fā)展。
1.4主要生產(chǎn)工藝及設(shè)備
1.4.1高系稀土拋光粉的生產(chǎn)
以稀土混合物分離后的氧化為原料,以物理化學(xué)方法加工成硬度大,粒度均勻、細(xì)小,呈面心立方晶體的粉末產(chǎn)品。其主要工藝過程為:原料→高溫→煅燒→水淬→水力分級(jí)→過濾→烘干→系稀土拋光粉產(chǎn)品。
主要指標(biāo):產(chǎn)品中w(REO)=99%,w(CeO2)=99%;稀土回收率約95%;平均粒經(jīng)1μm~6μm(或粒度為200目~300目),晶形完好。該產(chǎn)品適用于高速拋光。這種高拋光粉早代替了古典拋光的氧化鐵粉()。
1.4.2中系稀土拋光粉的制備
用混合稀土氫氧化物(w(REO)=65%,w(CeO2)≥48%)為原料,以化學(xué)方法預(yù)處理得稀土鹽溶液,加入中間體(沉淀劑)使轉(zhuǎn)化成w(CeO2)=80%~85%的中級(jí)系稀土拋光粉產(chǎn)品。其主要工藝過程為:
原料→氧化→優(yōu)溶→過濾→酸溶→沉淀→洗滌過濾→高溫煅燒→細(xì)磨篩分→中級(jí)系稀土拋光粉產(chǎn)品。主要設(shè)備:氧化槽,優(yōu)溶槽,酸溶槽,沉淀槽,過濾機(jī),煅燒爐,細(xì)磨篩分機(jī)及包裝機(jī)。
原料→干法細(xì)磨→配料→混粉→焙燒→磨細(xì)篩分→低級(jí)系稀土拋光粉產(chǎn)品。主要設(shè)備:球磨機(jī),混料機(jī),焙燒爐,篩分機(jī)等。主要指標(biāo):產(chǎn)品中w(REO)≥95%,w(CeO2)≥50%;稀土回收率≥95%;產(chǎn)品粒度為1.5μm~2.5μm.該產(chǎn)品適合于眼鏡片、電視機(jī)顯象管的高速拋光之用。目前,國內(nèi)生產(chǎn)的低級(jí)系稀土拋光粉的量,約占總產(chǎn)量的90%以上。