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真空蒸鍍可應用在哪些產(chǎn)業(yè)?主要產(chǎn)業(yè)大多應用于裝飾、光學、電性、機械及防蝕方面等,現(xiàn)就比較常見者分述如下:1.鏡片的抗反射鍍膜(MgO、MgF2、SiO2等),鏡片置于半球支頂,一次可鍍上百片以上。2.金屬、合金或化合物鍍膜,應用于微電子當導線、電阻、光電功能等用途。3.鍍鋁或鉭于絕緣物當電容之電極。4.特殊合金鍍膜MCrAlY具有耐熱性抗yang化性,耐溫達1100OC,可應用須耐高溫環(huán)境的工件,如高速切削及成形加工、渦輪引擎葉片等。5.鍍金屬于玻璃板供建筑物之裝飾及防紫外線。
我們通常所說的PVD鍍膜,指的就是真空離子鍍膜;通常所說的PVD鍍膜機,指的也就是真空離子鍍膜機。PVD鍍膜技術(shù)的原理:PVD鍍膜(離子鍍膜)技術(shù),其具體原理是在真空條件下,采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù),利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離,利用電場的加速作用,使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。PVD鍍膜膜層的特點:采用PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層,具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系數(shù))、很好的耐腐蝕性和化學穩(wěn)定性等特點,膜層的壽命更長;同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。
②氮碳化鈦涂層(TiCN):TiCN涂層是在TiN的基礎上添加碳元素,以提高涂層的硬度和低的摩擦系數(shù)用途:高速gang刀具,沖壓模具,成型模具。③氮鋁鈦(TiAlN)、氮鈦鋁AlTiN:俗稱:中鋁(Al:Ti=50:50)、高鋁(Al:Ti=67:33)以上,TiAlN/AlTiN涂層在加工過程中形成的氧化鋁涂層可以有效提高加工工具的高溫加工壽命,AlTiN涂層的抗高溫氧化比TiAlN要高100度左右。用途:硬質(zhì)合金工具(加工材料硬度低于HRC45時建議用TiAlN,加工材料硬度高于HRC45時建議使用AlTiN涂層),薄壁件沖壓模具(TiAlN),壓鑄模具(AlTiN)。
但由于金屬離化過程非常激烈,會產(chǎn)生較多的有害雜質(zhì)顆粒,涂層表面較為粗糙。②磁控離子濺射(SPUTTERING):真空磁控離子濺射過程中,ya離子被被加速打在加有負電壓的陰極(靶材)上。離子與陰極的碰撞使得靶材被濺射出帶有平均能量4-6eV的金屬離子。這些金屬離子沉積在放于靶前方的被鍍工件上,形成涂層薄膜。由于金屬離子能量較低,涂層的結(jié)合力與硬度也相應較真空陰極弧物理蒸發(fā)方式差一些,但由于其表面質(zhì)量優(yōu)異被廣泛應用于有表面功能性和裝飾性的涂層領(lǐng)域中。