在整個半導體產(chǎn)業(yè)鏈中，中國投入資金的就屬晶圓代工部份。具體來說，晶圓代工就是在硅晶圓上制作電路與電子元件，這個步驟為整個半導體產(chǎn)業(yè)鏈中技術復雜，且資金投入的領域。    以處理器為例，其所需處理步驟可達數(shù)百道，且各類加工機臺先進又昂貴，動輒數(shù)千萬美元起跳。而一個成熟的晶圓代工廠其設備投入占總設備比重在70%～80%之間。    氧化：其目的在于生成二氧化硅薄膜。用硅作為半導體原材料的重要因素之一就是硅容易生長出二氧化硅膜層，這樣在半導體上結合一層絕緣材料，就可用做摻雜阻擋層、表面絕緣層，及元件中的絕緣部分。

用于金屬腐蝕標牌的耐腐蝕油墨必須具有以下要求：易于絲網(wǎng)印刷，流變性小，無的精細油墨，圖像清晰，與板粘接牢固，耐腐蝕，腐蝕后易于去除油墨等，耐腐蝕油墨大致可分為兩種類型：絲網(wǎng)印刷防腐成像油墨;紫外成像防腐油墨。

　　1，絲網(wǎng)印刷防腐成像油墨：

　　油墨可分為三種類型：耐腐蝕性：

　　a，耐酸腐蝕;

　　b，耐堿腐蝕;

　　c，耐酸堿腐蝕。

有不少朋友向我們小編反映到，自己在使用真空蝕刻機制作網(wǎng)版的過程中，總是在圖文部分出現(xiàn)顯影不透的現(xiàn)象。那作為一個的真空蝕刻機廠家，小編自然是總結了以下知識，希望能夠幫助到大家。

    一、是在恒溫箱中烘干網(wǎng)版的時間太長或烘干的溫度太高，兩者都可使涂布感光膠的網(wǎng)版在沒有曝光之前就產(chǎn)生“熱敏化”，如果再曝光就產(chǎn)生過量曝光，因此，圖像難以顯透了。    二、在涂布感光膠時，由于涂布的次數(shù)較多，涂布時又不注意避光操作造成多次曝光，再曝光時就難以顯透圖像。    三、曬版光源強度太大，曬版時間太長造成曝光過度，造成顯影困難。有時圖像反差太小，曝光時就會產(chǎn)生曝光過度，造成顯影困難。

 用我們的機器生產(chǎn)鏤空切割產(chǎn)品，具有精度高，速度快，成品率高等優(yōu)點，同時藥液使用充分，大大降低生產(chǎn)成本。進料寬度與蝕據(jù)客戶要求定制。    金屬蝕刻機、金屬腐蝕機應用范圍:    適用于高精度、金屬標牌，高精度薄板金屬電子零部件（如手機金屬按鍵面板、金屬網(wǎng)片、精密過濾網(wǎng)等）加工制造。蝕刻精度：根據(jù)制版而定制版精度0.2微米。