鍍鈦是作為金屬材料的表面處理的一種工藝,現(xiàn)在已經(jīng)在工業(yè)領(lǐng)域普遍應(yīng)用并有逐漸推廣使用的意向。

　　在二十世紀(jì)七十年代末，人類(lèi)就已經(jīng)開(kāi)始物理氣相沉積技術(shù)，即PVD技術(shù)。物理氣相沉積技術(shù)可以應(yīng)用在硬質(zhì)膜的制造上，它能夠提高產(chǎn)品的機(jī)械化學(xué)性能，使制造出的產(chǎn)品具有高耐磨性、高硬度等性能，還可以減輕摩擦作用。清洗效果，能使鍍層直接貼近基體，有效地增強(qiáng)了附著力，簡(jiǎn)化了大量的鍍前清洗工作。這種技術(shù)在剛開(kāi)始使用時(shí)，就在世界各國(guó)的工具制造業(yè)引起了巨大的反響，受到了高度重視。同時(shí)，這種技術(shù)工藝符合現(xiàn)代人們對(duì)環(huán)境無(wú)污染加工技術(shù)的要求，是一種綠色環(huán)保的技術(shù)。

而鍍鈦呢，技術(shù)雖然與鍍金、鍍銀有著相同之處，但是由于鈦的本身特質(zhì)決定，鍍鈦實(shí)際上是在物體的表面利用電的化學(xué)辦法鍍上了一層鈦膜，它與我們常說(shuō)的水鍍差不多。聽(tīng)說(shuō)鍍鈦采用的水鍍工藝就是我們比較熟知的電鍍工藝。在直接水冷的情況下,金屬靶材的靶功率密度允許值為10~30W/cm2。據(jù)說(shuō)，電鍍工藝霸占了很長(zhǎng)時(shí)間的鍍膜工藝市場(chǎng)，主要因?yàn)樗旧砭哂械亩拘苑浅４螅虼耸袌?chǎng)才逐漸縮小。

PVD（Physical Vapor Deition），在真空條件下，采用物理方法，使材料源表面氣化成原子、分子或離子，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)。PVD主要分為蒸鍍、濺射和離子鍍?nèi)箢?lèi)。

蒸發(fā)鍍膜

真空條件下，將鍍料加熱蒸發(fā)或升華，材料的原子或分子直接在襯底上成膜的技術(shù)。根據(jù)加熱方法的不同主要有以下幾種蒸發(fā)鍍膜技術(shù)。

采用電阻加熱蒸發(fā)源的蒸發(fā)鍍膜技術(shù)，一般用于蒸發(fā)低熔點(diǎn)材料，如鋁、金、銀、硫化鋅、氟化鎂、三氧化二鉻等；加熱電阻一般采用鎢、鉬、鉭等。

離子鍍基本原理：在真空條件下，采用某種等離子體電離技術(shù)，使鍍料原子部分電離成離子，同時(shí)產(chǎn)生許多高能量的中性原子，在被鍍基體上加負(fù)偏壓。這樣在深度負(fù)偏壓的作用下，離子沉積于基體表面形成薄膜。

九、離子鍍的工藝過(guò)程：蒸發(fā)料的粒子作為帶正電荷的高能離子在高壓陰極（即工件）的吸引下，以很高的速度注入到工件表面。