PVD基本方法：真空蒸發(fā)、濺射、離子鍍（空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍），以下介紹幾種常用的方法。電子束蒸發(fā)電子束蒸發(fā)是利用聚焦成束的電子束來加熱蒸發(fā)源，使其蒸發(fā)并沉積在基片表面而形成薄膜。特征：真空環(huán)境；蒸發(fā)源材料需加熱熔化；基底材料也在較高溫度中；用磁場控制蒸發(fā)的氣體，從而控制生成鍍膜的厚度。濺射沉積濺射是與氣體輝光放電相聯系的一種薄膜沉積技術。濺射的方法很多，有直流濺射、RF濺射和反應濺射等

涂層顏色：目前，PVD涂層能夠做出的顏色有深金黃色、淺金黃色、咖啡色、古銅色、灰色、黑色、灰黑色、七彩色等。通過控制涂層構成中的相關參數，可以控制涂層的顏色。PVD涂層質量指標情況：當前，隨著國內外市場對刀具、工具、模具等產品需求的增長，全球PVD涂層行業(yè)得到快速發(fā)展。PVD涂層技術工藝處理溫度低，在600℃以下時對工件材料的抗彎強度無影響，薄膜內部應力狀態(tài)為壓應力，更適合對硬質合金精密復雜工件如刀具的涂層。

鋅液中夾雜過多其他金屬成分或有害元素，可能造成如鋅渣顆粒粘附在鍍層表面和一些非正常的花紋、龜裂紋等缺陷：

(1)鐵

熱鍍鋅一段時間后，鋼制件表面會出現鋅堆積和微小鋅渣顆粒，致使鍍層表面粗糙，光滑度也隨之下降。這種微小顆粒一般是Fe—Zn合金顆粒渣。

鋅液中鐵的來源一般有鋅鍋的腐蝕、制件的溶解、助鍍劑中的鐵離子及制件上的鐵鹽4方面。因此，為了獲得平整光滑的鍍層，必須嚴格控制鋅液中鐵含量，減少鐵離子的帶入，控制鋅液溫度，避免鋅液溫度的忽高忽低，降低鋅鍋的腐蝕速度等。