高溫束源爐的特點

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溫度控制和均勻的基于SCR 功率輸出電源實現(xiàn)準確的沉積速率控制，并確保高質(zhì)量的，均勻的膜。

◆ 使用PID 控制器進行溫度控制，控制在±1℃

◆ 自動調(diào)節(jié)模式

◆ 可調(diào)節(jié)報警條件

◆ 速率控制輸入與沉積控制相兼容

加熱樣品臺的設(shè)計原理

設(shè)計原理為：將樣品槽設(shè)置在中空腔中，中空腔中通入熱空氣對樣品槽進行加熱，從而對樣品進行傳熱加熱，而隨著熱空氣裝置不斷向中空腔中通入空氣，中空腔中的壓力會增大，從而通過泄壓口向氣管排氣，排出的氣體會通過氣管到達多孔頭，從而對樣品容器通入熱空氣，一方面熱空氣對樣品容器中的樣品進行加熱，另一方面還能起到空氣攪拌的作用。改進后的可旋轉(zhuǎn)電子束加熱樣品臺結(jié)構(gòu)簡單，操作方便，工作穩(wěn)定可靠，加熱室密封性好，樣品得到旋轉(zhuǎn)加熱，受熱均勻，有效提高設(shè)備加熱效率。

熱空氣裝置包括空壓機、加熱箱和管道，空壓機通過所述管道與所述加熱箱連通，加熱箱通過管道與所述中空腔連通，空壓機產(chǎn)生的空氣通過管道進入到加熱箱中進行加熱，并經(jīng)管道通入到中空腔中。

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濺射靶材的種類

濺射靶材的種類較多,即使相同材質(zhì)的濺射靶材也有不同的規(guī)格。按照不同的分類方法,能夠?qū)R射靶材分為不同的類別,主要分類情況如下:

按形狀分類:長靶、方靶、圓靶

按化學(xué)成份分類:金屬靶材(純金屬鋁、鈦、銅、鉭等)、合金靶材(鎳鉻合金、鎳鈷合金等)、陶瓷化合物靶材(氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等)

按應(yīng)用領(lǐng)域分類:半導(dǎo)體芯片靶材、平面顯示器靶材、太陽能電池靶材、信息存儲靶材、I具改性靶材、電子器件靶材、其他靶材。

表面原子發(fā)生動能交換,使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體 是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——專業(yè)生產(chǎn)、銷售磁控靶材，我們公司堅持用戶為上帝，想用戶之所想，急用戶之所急，以誠為本，講求信譽，以產(chǎn)品求發(fā)展，以質(zhì)量求生存，我們熱誠地歡迎各位同仁合作共創(chuàng)輝煌。

靶材鍍膜前的清潔

在進行鍍膜前都必須將基片進行清潔,對于在線鍍膜來說,這是很小的事情,但對離線鍍膜來說卻相當(dāng)重要,而且操作起來也比較困難，對于大面積的鍍膜來說,將玻璃基片完全清潔干凈是不可能的,因此,如何達到鍍膜所必須要求的潔凈程度就變得非常重要。要保持清潔程度足夠高,如果清潔程度不夠,膜層容易老化,甚至脫膜等現(xiàn)象。通過設(shè)置緩沖室和溫度傳感器，能夠?qū)崟r、準確的監(jiān)測加熱電極流出的冷卻水的溫度，并及時反饋，為熔銅爐的正常工作提供了安全保障。不同用途,不同加工工藝的膜層對清潔程度要求是不一樣的,對于目前我司生產(chǎn)的玻璃來說, Low-E玻璃要求的玻璃潔凈度不如熱反射玻璃高。目前要為鍍膜準備大面積的鍍膜玻璃基片，主要采用的是一 種濕式清潔技術(shù),這種技術(shù)包括三部分:

1.松動玻璃表面的雜質(zhì)

2.去除已經(jīng)松動的、分離的雜質(zhì)

3.干燥已經(jīng)清潔的玻璃表面

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司本著多年真空配件與零件行業(yè)經(jīng)驗，專注真空配件與零件研發(fā)定制與生產(chǎn)，先進的真空配件與零件生產(chǎn)設(shè)備和技術(shù)，建立了嚴格的產(chǎn)品生產(chǎn)體系，想要更多的了解，歡迎咨詢圖片上的熱線電話?。?！