在光學(xué)鍍膜材料的應(yīng)用上，鍍膜靶材是核心技術(shù)，通過(guò)不同靶材中含有的稀有金屬不同而形成不同的光學(xué)鍍膜材料，普遍應(yīng)用的稀有金屬有氟化釔、氟化鐠、鍺、硫化鋅、氟化鎂、二氧化鈦、氧化鋯、鈷、、硒等金屬。隨著鍍膜技術(shù)的不斷推廣，光學(xué)鍍膜技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域也在不斷拓寬，這些具有優(yōu)異物理特性的金屬將隨著我們生活水平的提高為我們的生活帶來(lái)更多的精彩。在反射鏡的光學(xué)材料中普遍用到銅、鉬、硅、鍺等金屬，在輸出端和透射光學(xué)原件中鍺、、硒化鋅等應(yīng)用廣泛。

隨著鍍膜技術(shù)的不斷推廣，光學(xué)鍍膜技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域也在不斷拓寬，這些具有優(yōu)異物理特性的金屬將隨著我們生活水平的提高為我們的生活帶來(lái)更多的精彩。

納米鍍膜

直接蒸鍍法。是被鎮(zhèn)基材直接通過(guò)真空鍍膜機(jī)，將金屬鋁蒸鍍?cè)诨谋砻娑纬慑冧X薄膜。直接蒸鍍法對(duì)基材的要求較高，尤其是要形成表面光亮的金屬膜，要求基材具有較好的表面平滑度。電路板鍍膜加工工藝生產(chǎn)管理人員對(duì)操作工指導(dǎo)和監(jiān)督不力，這些在PVD鍍膜企業(yè)較普遍存在的狀況,電路板鍍膜加工工藝使得故障在所難免。如果紙張的表面較粗糙，要采用直接蒸鍍法，在鍍鋁前需先進(jìn)行表面涂布。另外，在蒸鍍過(guò)程中基材的揮發(fā)物要少。因此直接蒸鍍法對(duì)基材有較大的局限性，它主要適合于蒸鍍塑料薄膜，也可用于紙張的蒸鍍，但紙張的質(zhì)量要求高，并對(duì)紙的定量有限度。

電路板鍍膜加工工藝加工生產(chǎn)故障是每個(gè)電路板鍍膜加工工藝企業(yè)都會(huì)遇到的問(wèn)題，排除故障是電路板鍍膜加工工藝技術(shù)人員的重要職責(zé)。電路板鍍膜加工工藝實(shí)踐出真知，PVD鍍膜生產(chǎn)的實(shí)踐性很強(qiáng)。真空鍍膜加工對(duì)于高度不穩(wěn)定的、對(duì)水蒸氣敏感的表面，一般應(yīng)貯存在真空干燥箱中。要在調(diào)控PVD鍍膜生產(chǎn)的全過(guò)程中做到遇障不驚，PVD鍍膜的途徑就是在生產(chǎn)實(shí)踐中摸爬滾打、堅(jiān)韌實(shí)干善于思考，不斷探索和積累等。

真空鍍膜加工表面的清潔處理非常重要，直接影響到電鍍的產(chǎn)品品質(zhì)。物理氣相沉積技術(shù)具有膜/基結(jié)合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應(yīng)用的靶材廣泛、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩(wěn)定的合金膜和重復(fù)性好等優(yōu)點(diǎn)。加工件進(jìn)入鍍膜室前一定要做到認(rèn)真的鍍前清潔處理，表面污染來(lái)自工件在加工、傳輸、包裝過(guò)程所粘附的各種粉塵、潤(rùn)滑油、 機(jī)油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物，為了避免加工過(guò)程中造成的不良，真空鍍加工廠家基本上可采用去油或化學(xué)清冼方法將其去掉。

對(duì)經(jīng)過(guò)清洗處理的清潔表面，不能在大氣環(huán)境中存放，要用封閉容器或保潔柜貯存，以減小灰塵的沾污。用剛 氧化的鋁容器貯存玻璃襯底，可使碳?xì)浠衔镎魵獾奈綔p至小。因此，Parylene可用作微機(jī)電，微馬達(dá)的表面處理和絕緣體。因?yàn)檫@些容器優(yōu)先吸附碳?xì)浠衔铩Ｕ婵斟兡ぜ庸?duì)于 高度不穩(wěn)定的、對(duì)水蒸氣敏感的表面，一般應(yīng)貯存在真空干燥箱中。

Parylene涂層，其性能可以滿足電路組件的涂層需要。這些透明的聚合物實(shí)際上是高結(jié)晶和線性的，具有優(yōu)異的介電和屏蔽性能，以及化學(xué)惰性，而且致密無(wú)。

用Parylene涂敷的集成電路硅片細(xì)引線可加固5-10倍，Parylene還能滲透到硅片下面，提高硅片的結(jié)合強(qiáng)度，提高集成電路的可靠性。

Parylene在電子產(chǎn)品領(lǐng)域的優(yōu)點(diǎn):

防鹽霧，防氧化，防潮濕三防性能優(yōu)異同時(shí)在酷熱及低溫-270攝氏度條件下均保持良好的防護(hù)特性；

極低的介電常數(shù)和超薄的厚度，高頻損耗小；