國(guó)外于60年前開(kāi)始生產(chǎn)稀土拋光粉，二十世紀(jì)90年代已形成各種標(biāo)準(zhǔn)化、系列化的產(chǎn)品達(dá)30多種規(guī)格牌號(hào)。

　　目前，國(guó)外的稀土拋光粉生產(chǎn)廠(chǎng)家主要有15家（年生產(chǎn)能力為200噸以上者）。其中，法國(guó)羅地亞公司年生產(chǎn)能力為2200多噸。是目前大的稀土拋光粉生產(chǎn)廠(chǎng)家。美國(guó)的拋光粉年產(chǎn)量能力達(dá)1500噸以上。

。日本生產(chǎn)稀土拋光粉的原料采用氟碳礦、粗氯化和氯化稀土三種，工藝上各不相同。日本稀土拋光粉的生產(chǎn)在燒結(jié)設(shè)備和技術(shù)上均具特色。1968年，我國(guó)在上海躍龍化工廠(chǎng)研制成功稀土拋光粉。

以上原料中除種外，第2,3,4種均含輕稀土（w（REO）≈98%），且以CeO2為主，w（CeO2）為48%~50%.我國(guó)具有豐富的資源，據(jù)測(cè)算，其工業(yè)儲(chǔ)量約為1800萬(wàn)噸（以CeO2計(jì)），這為今后我國(guó)持續(xù)發(fā)展稀土拋光粉奠定了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)，也是我國(guó)獨(dú)有的一大優(yōu)勢(shì)，并可促進(jìn)我國(guó)稀土工業(yè)繼續(xù)高速發(fā)展。

　　1.4主要生產(chǎn)工藝及設(shè)備

　　1.4.1高系稀土拋光粉的生產(chǎn)

　　以稀土混合物分離后的氧化為原料，以物理化學(xué)方法加工成硬度大，粒度均勻、細(xì)小，呈面心立方晶體的粉末產(chǎn)品。其主要工藝過(guò)程為：原料→高溫→煅燒→水淬→水力分級(jí)→過(guò)濾→烘干→系稀土拋光粉產(chǎn)品。

原料→干法細(xì)磨→配料→混粉→焙燒→磨細(xì)篩分→低級(jí)系稀土拋光粉產(chǎn)品。主要設(shè)備：球磨機(jī)，混料機(jī)，焙燒爐，篩分機(jī)等。主要指標(biāo)：產(chǎn)品中w（REO）≥95%,w（CeO2）≥50%;稀土回收率≥95%;產(chǎn)品粒度為1.5μm~2.5μm.該產(chǎn)品適合于眼鏡片、電視機(jī)顯象管的高速拋光之用。目前，國(guó)內(nèi)生產(chǎn)的低級(jí)系稀土拋光粉的量，約占總產(chǎn)量的90%以上。

稀土拋光粉的應(yīng)用

　　由于系稀土拋光粉具有較優(yōu)的化學(xué)與物理性能，所以在工業(yè)制品拋光中獲得了廣泛的應(yīng)用，如已在各種光學(xué)玻璃器件、電視機(jī)顯像管、光學(xué)眼鏡片、示波管、平板玻璃、半導(dǎo)體晶片和金屬精密制品等的拋光。

　　高系稀土拋光粉，主要適用于精密光學(xué)鏡頭的高速拋光。實(shí)踐表明，該拋光粉的性能優(yōu)良，拋光效果較好，由于價(jià)格較高，國(guó)內(nèi)的使用量較少。