平面研磨機的導(dǎo)向裝置配置詳情：

在平面研磨機 研磨加工的時候為了防止油石在進出孔的時候出現(xiàn)被損壞的現(xiàn)象，需要避免平面研磨機磨頭上的其他零件被加工的表面接觸，研磨頭上一般都會有前導(dǎo)向頭、導(dǎo)向條等。

小直徑的通孔進行研磨，會采用前導(dǎo)向頭，導(dǎo)向條以及導(dǎo)向頭的外徑應(yīng)該要大于或者是等于研磨油石的收縮到極限的位置的時候的外徑，要小于被加工的孔在研磨之前的小孔徑。

導(dǎo)向條的數(shù)量與油石的數(shù)量是相等的，與工件之間已經(jīng)加工的工件表面所接觸的導(dǎo)向件的材料，會采用加布膠木，在工件等到被加工表面所接觸的導(dǎo)向件的材料，會采用碳鋼、合金鋼等。

研磨頭工件等主要工件的材料，是要求具有比較高的強度以及印度。

大孔的研磨頭的擴與收縮主要是通過相對于研磨油石之間的調(diào)節(jié)所完成的，主要是依賴錐芯相對于研磨油石的工件斜面作為軸向調(diào)節(jié)進行完成，斜面的角度所具有的一致性，能夠確保油石的擴漲量的一致性，對于提高研磨工件的角度，特別是加工工件表面精度都有好處。工件的表面光潔度是由所選擇的加工方法決定的，而雙面研磨機的研磨主要是為獲得較高表面光潔度的理想的工藝方法之一。

在要求具有足夠的強度外，還需要保證研磨油石在擴漲與收縮限的時候，錐芯仍然能夠保證油石在錐芯的錐面上支承。能夠提高研磨工件精度，特別是孔的結(jié)合精度。

這種平面研磨機設(shè)備能夠提高工作效率，還會使擠壓力、切削熱要增加，油石的表面比較容易出現(xiàn)堵塞的鐵屑，影響正常的加工。

平面研磨機和單面研磨機的概念用途參數(shù)淺析

單面研磨機是主要作為石英晶體片、硅、鍺片、玻璃、陶瓷片、活塞環(huán)、閥板、閥片、軸承、鉬片、藍寶石、等各種片狀金屬、別的圓盤類零件的研磨，非金屬零件的單面研磨。是一種平面加工設(shè)備，有著高強度機械結(jié)構(gòu)和穩(wěn)定的精度。

平面研磨機廣泛用于LED藍寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、光扦接頭號各種材料的單面研磨、拋光。是一種精細研磨拋光設(shè)備，被磨、拋材料放于平坦的研磨盤上，研磨盤逆時針滾動，皮帶輪帶動工件自轉(zhuǎn)，重力加壓或其它方法對工件施壓，工件與研磨盤作相對運動磨擦，來達到研磨拋光的目的。5．采用PLC控制，壓力采用電—氣比例閥與拉力傳感器進行閉環(huán)反饋控制，壓力過程實現(xiàn)了準(zhǔn)確控制。

圓盤式研磨機的分類

圓盤式研磨機分單盤和雙盤兩種，以雙盤研磨機應(yīng)用為普通。在雙盤研磨機上，多個工件同時放入位于上、下研磨盤之間的保持架內(nèi)，保持架和工件由偏心或行星機構(gòu)帶動作平面平行運動。主要用于研磨工件中的高精度平面、內(nèi)外圓柱面、圓錐面、球面、螺紋面和其他型面。下研磨盤旋轉(zhuǎn)，與之平行的上研磨盤可以不轉(zhuǎn)，或與下研磨盤反向旋轉(zhuǎn)，并可上下移動以壓緊工件（壓力可調(diào)）。此外，上研磨盤還可隨搖臂繞立柱轉(zhuǎn)動一角度，以便裝卸工件。雙盤研磨機主要用于加工兩平行面、一個平面(需增加壓緊工件的附件)、外圓柱面和球面（采用帶V形槽的研磨盤）等。加工外圓柱面時,因工件既要滑動又要滾動，須合理選擇保持架孔槽型式和排列角度。單盤研磨機只有一個下研磨盤，用于研磨工件的下平面，可使形狀和尺寸各異的工件同盤加工，研磨精度較高。有些研磨機還帶有能在研磨過程中自動校正研磨盤的機構(gòu)。