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技術(shù)參數(shù)
噴槍采用快速接頭連接方式,外螺紋鏈接及內(nèi)螺紋鏈接方式,折卸方便;
采用保護(hù)碳化硅保護(hù)套管,具有耐高溫,耐磨損等特點(diǎn),無(wú)需另設(shè)冷卻裝置
就可確保噴槍長(zhǎng)期安全、穩(wěn)定運(yùn)行;
噴槍體保小,套管外徑只有24mm -36mm,可直接安裝于爐壁上。
噴槍采用保護(hù)套管及活動(dòng)法蘭連接??墒謩?dòng)將噴伸進(jìn)或者退出爐內(nèi);
采用金屬保護(hù)管套,套管采用先進(jìn)的熱處理技術(shù),保證了保護(hù)套管具有耐高溫及耐磨損強(qiáng)度
保護(hù)套管設(shè)有風(fēng)冷接口,確保高溫環(huán)境下長(zhǎng)時(shí)間使用。
三、脫硝專(zhuān)用噴槍XY-FX-F系列
脫硝專(zhuān)用噴槍XY-FX-F系列噴嘴根據(jù)流量分為:F20、F40、F90,此系列噴霧形狀為扇形。
其特點(diǎn):
1、霧化效果好——平均霧化顆粒直徑只有60微米。經(jīng)過(guò)噴嘴霧化后,在同樣噴水量情況下,霧滴數(shù)量增加幾十倍,液滴總表面積增加幾倍,所以脫硝效率更高,氨逃逸率更低。
2、穿透性強(qiáng)——水霧從噴嘴出口噴出時(shí)速度到達(dá)40m/s,保證了還原劑能夠與煙氣充分混合,從而提高了脫硝效率。
3、材質(zhì)過(guò)關(guān)——噴槍為310S不銹鋼材質(zhì),噴嘴采用耐高溫、耐腐蝕的特質(zhì)合金材質(zhì),在高溫?zé)煔庵虚L(zhǎng)期使用不腐蝕、不變形。其壽命達(dá)3年以上。
4、大流量調(diào)節(jié)比——單支噴槍流量調(diào)節(jié)比達(dá)到1:5,再加上多支噴槍的組合,肯定能適合任何工況的需要。
5、控制簡(jiǎn)單——工作時(shí),固定氣壓不變,僅靠調(diào)節(jié)水壓就能達(dá)到調(diào)節(jié)水量的目的,而且水量變化對(duì)噴霧顆粒影響很小。
6、使用壽命長(zhǎng)——因?yàn)閲娮旃ぷ髟诘蛪涵h(huán)境下,水壓氣壓都不超過(guò)0.6Mpa,所以對(duì)噴嘴磨損很小,噴槍外帶碳化硅保護(hù)套管,噴嘴完全置于保護(hù)套管內(nèi),避免高溫、高粉塵及高流速煙氣對(duì)噴嘴的磨損。
7、型號(hào)齊全——噴霧形狀為多種角度的扇形。
8、邊緣效應(yīng)——由于地球策略的影響,會(huì)有"邊緣效應(yīng)"的產(chǎn)生,即噴霧的扇形剖面產(chǎn)生逐漸變細(xì)的邊緣。
9、重疊布置——在多個(gè)噴嘴進(jìn)行布置時(shí),需要有25%--30%的重疊,以使整個(gè)霧化效果的排布均勻。
濰坊北科環(huán)保設(shè)備有限公司提供脫硝噴槍,脫硝噴槍替代進(jìn)口,垃圾焚燒脫硝噴槍。
FM霧化噴槍的發(fā)展趨勢(shì)
4律修正案。對(duì)水性涂料中每公升VOC含量控制在50克以下,溶劑性涂料每公升VOC含量控制在75克以?xún)?nèi)。
HVLP高流量低氣壓霧化技術(shù)環(huán)保省漆噴槍和RP低流量中氣壓霧化技術(shù)省漆噴槍是今后空氣霧化噴槍的發(fā)展趨勢(shì)。HVLP/RP噴槍不論是涂裝效果還是涂料的傳遞效率比傳統(tǒng)噴槍好許多,因此,HVLP/RP噴槍受到世界各國(guó)噴漆技師的青睞。在歐美發(fā)達(dá)國(guó)家,HVLP/RP噴槍已非常普及;BNSR系列SNCR脫硝設(shè)備采用氣動(dòng)執(zhí)行器,壓縮空氣霧化,其工程造價(jià)低、布置簡(jiǎn)易、占地面積小,適合老廠改造,新廠可以根據(jù)鍋爐設(shè)計(jì)配合使用。在中國(guó),大力推廣使用HVLP/RP噴槍已是大勢(shì)所趨。
脫硝工藝介紹
SNCR方法主要使用含氮的藥劑在982℃附近的溫度區(qū)域870~1200℃噴入含NO的燃燒產(chǎn)物中,發(fā)生還原反應(yīng),脫除NO,生成氮?dú)夂退?
由于在一定溫度范圍,有氧氣的情況下,氮?jiǎng)?duì)NOx的還原,在所有其他的化學(xué)反應(yīng)中占主導(dǎo),表現(xiàn)出選擇性,因此稱(chēng)之為選擇性非催化還原。
氨水與尿素在脫硝還原反應(yīng)中的佳溫度
1、氨水溫度范圍較寬,在800~1100℃,還原率50%以上;
2、尿素在900℃還原達(dá)到80%以上,但溫度較窄,要達(dá)到50%以上的還原效率,溫度需在850~1000℃;
3、 湛流系列噴槍霧化顆粒小,噴射距離遠(yuǎn),能夠大程度的增加還原劑與煙氣的接觸面積,減少反應(yīng)的時(shí)間,提高反應(yīng)效率,降低還原劑的消耗。