PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術主要分為三類，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對應于PVD技術的三個分類，相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機這三種。近十多年來，真空離子鍍膜技術的發(fā)展是zui快的，它已經(jīng)成為當今zui先進的表面處理方式之一。我們通常所說的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜；通常所說的PVD鍍膜機，指的也就是真空離子鍍膜機。PVD鍍膜技術的原理：PVD鍍膜（離子鍍膜）技術，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質及其反應產物沉積在工件上。

鋁是熱鍍鋅中zui常用的添加元素。在鋅液中添加不同濃度的鋁可以獲得不同性質的鍍鋅層。

一般認為熱鍍鋅時，在鋅液中加入<1%(質量分數(shù)，下同)的鋁可以起到下列作用：①提高鍍層光亮性;②減少鋅液面的氧化;③抑制脆性Fe—Zn相的形成而獲得粘附性好的鍍層。而在實際生產中，鋅液中含有0.005%～0.020%Al就可以達到鍍層光亮的目的，并可減少鋅液表面的氧化和鋅灰的產生。

采用Zn—Al中間合金的添加方式m往往由于添加的中間合金的質量問題以及添加鋁和鋅鋁合金的方法不當或過快，導致鋅液中形成大量的鋁、鐵化合物，此鋅鋁鐵三元“面渣”或顆粒懸浮在鋅液表面而且十分粘稠，極易粘附在鋼鐵制件上，嚴重損害了鍍層質量，此時僅靠降溫撈渣是沒用的。

熱鍍基板可以是熱軋也可以是冷軋基板，一些外貿詢單中會用HX或HC這種簡稱來代指熱軋基板或是冷軋基板。這是源自歐標牌號的命名規(guī)則，當然是不太規(guī)范的。

此外，在某些行業(yè)中，GI常被用來代指熱鍍純鋅鍍層、GA代指熱鍍鋅鐵鍍層、ZAM代指鋅鎂鍍層。

主流的熱鍍鍍層分為六大類，分別是：

1、熱鍍純鋅（Z）

2、熱鍍鋅鐵合金（ZF）

3、熱鍍鋅鋁（ZA）

4、熱鍍鋁鋅（AZ）

5、熱鍍鋁硅（AS）

6、熱鍍鋅鎂（ZM）