棫楦金屬材料有限公司成立于2010年，公司具有全自動(dòng)電解出產(chǎn)線4條,手動(dòng)電解出產(chǎn)線3條,首要以不銹鋼、不銹鐵電解拋光、鈍化加工為主，很大工件電解拋光規(guī)范：2300*1100*1000，所加工產(chǎn)品首要用于精密電子配件、家私、餐具方面。電解拋光基本原理與化學(xué)拋光相同，即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。加工后的產(chǎn)品完全可以經(jīng)過：ROHS、FDA、QS等規(guī)范查驗(yàn)。

為了保證化學(xué)拋光的效果，必須使金屬表面溶解，并在表面上形成液體膜或固體膜。鋼的平滑化是由低電位區(qū)域的溶解作用形成的，而光澤化則是由高電位區(qū)域的溶解作用形成的。因此，金屬的化學(xué)拋光液必須具有溶解金屬的能力和形成保護(hù)膜的能力?；瘜W(xué)拋光液的基本組成一般包括腐蝕劑、氧化劑、添加劑和水。腐蝕劑是主要成分，如果零件在溶液中不溶解，拋光就不能進(jìn)行。氧化劑和添加劑可抑制腐蝕過程，使反應(yīng)朝有利于拋光的方向進(jìn)行。水對拋光液濃度起調(diào)節(jié)作用，便于反應(yīng)產(chǎn)物的擴(kuò)散。

棫楦金屬材料有限公司成立于2010年，公司具有全自動(dòng)電解出產(chǎn)線4條,手動(dòng)電解出產(chǎn)線3條,首要以不銹鋼、不銹鐵電解拋光、鈍化加工為主，很大工件電解拋光規(guī)范：2300*1100*1000，所加工產(chǎn)品首要用于精密電子配件、家私、餐具方面。拋光可以填充表面毛孔、劃痕以及其它表面缺陷，從而提高疲勞阻力、腐蝕阻力。加工后的產(chǎn)品完全可以經(jīng)過：ROHS、FDA、QS等規(guī)范查驗(yàn)。

拋光時(shí)，高速旋轉(zhuǎn)的拋光輪（圓周速度在20米/秒以上）壓向工件，使磨料對工件表面產(chǎn)生滾壓和微量切削，從而獲得光亮的加工表面，表面粗糙度一般可達(dá)Ra0.63～0.01微米;當(dāng)采用非油脂性的消光拋光劑時(shí)，可對光亮表面消光以改善外觀。需要提高溫度再進(jìn)行化學(xué)拋光的金屬有鋼鐵、鎳、鉛等，若溫度低于某一定值，就會(huì)出現(xiàn)無光的腐蝕表面，故存在一個(gè)形成光澤面的臨界溫度，在臨界溫度以上的一定溫度范圍內(nèi)，拋光效果最l好。 大批量生產(chǎn)軸承鋼球時(shí)，常采用滾筒拋光的方法。粗拋時(shí)將大量鋼球、石灰和磨料放在傾斜的罐狀滾筒中，滾筒轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，使鋼球與磨料等在筒內(nèi)隨機(jī)地滾動(dòng)碰撞以達(dá)到去除表面凸鋒而減小表面粗糙度的目的，可去除0.01毫米左右的余量。

棫楦金屬材料有限公司成立于2010年，公司具有全自動(dòng)電解出產(chǎn)線4條,手動(dòng)電解出產(chǎn)線3條,首要以不銹鋼、不銹鐵電解拋光、鈍化加工為主，很大工件電解拋光規(guī)范：2300*1100*1000，所加工產(chǎn)品首要用于精密電子配件、家私、餐具方面。為了進(jìn)行化學(xué)拋光，必須使零件表面的凸部比凹部優(yōu)先溶解，因此應(yīng)將化學(xué)拋光的作用分為兩個(gè)階段來認(rèn)識(shí)。加工后的產(chǎn)品完全可以經(jīng)過：ROHS、FDA、QS等規(guī)范查驗(yàn)。

化學(xué)拋光工藝流程：化學(xué)(或電化學(xué))除油→熱水洗→流動(dòng)水洗→除銹(10%硫酸)→流動(dòng)水洗→化學(xué)拋光→流動(dòng)水洗→中和→流動(dòng)水洗→轉(zhuǎn)入下道表面處理工序工作環(huán)境：傳統(tǒng)拋光工藝工作環(huán)境惡劣，拋光過程中產(chǎn)生沙粒，鐵屑，粉塵等，嚴(yán)重污染環(huán)境；.加工效率：人工拋光；豪克能工藝屬于以車代磨，線速度可達(dá)50-80 m/min,進(jìn)給量可達(dá)0.2-0.5mm/r,相當(dāng)于半精車的效率。介質(zhì)主要采用在較低壓力下流過性好的特殊化合物并摻上磨料制成，磨料可采用碳化硅粉末。鋪料消耗：拋光需要消耗拋光輪、磨料、砂帶等輔料；適應(yīng)性：拋光可以加工平面等簡單的型面，對于曲面無法加工。如果加工R弧，曲面等復(fù)雜型面，可采用豪克能拋光工藝。

棫楦金屬材料有限公司成立于2010年，公司具有全自動(dòng)電解出產(chǎn)線4條,手動(dòng)電解出產(chǎn)線3條,首要以不銹鋼、不銹鐵電解拋光、鈍化加工為主，很大工件電解拋光規(guī)范：2300*1100*1000，所加工產(chǎn)品首要用于精密電子配件、家私、餐具方面?；瘜W(xué)拋光可以大面或多件拋光薄壁、低剛度工件，可以拋光內(nèi)表面和形狀復(fù)雜的工件，不需要外加電源、設(shè)備，操作簡單、成本低。加工后的產(chǎn)品完全可以經(jīng)過：ROHS、FDA、QS等規(guī)范查驗(yàn)。

區(qū)別于傳統(tǒng)的純機(jī)械或純化學(xué)的拋光方法，CMP通過化學(xué)的和機(jī)械的綜合作用，從而避免了由單純機(jī)械拋光造成的表面損傷和由單純化學(xué)拋光易造成的拋光速度慢、表面平整度和拋光一致性差等缺點(diǎn)。流體拋光流體拋光是依*高速流動(dòng)的液體及其攜帶的磨粒沖刷工件表面達(dá)到拋光的目的。它利用了磨損中的“軟磨硬”原理，即用較軟的材料來進(jìn)行拋光以實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的表面拋光。

CMP拋光液:CMP拋光液是以高純硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品，廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光。