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不銹鋼深孔拋光加工信賴推薦,棫楦金屬材料公司

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發(fā)布時(shí)間:2020-07-27 18:32  







棫楦金屬材料有限公司成立于2010年,公司具有全自動(dòng)電解出產(chǎn)線4條,手動(dòng)電解出產(chǎn)線3條,首要以不銹鋼、不銹鐵電解拋光、鈍化加工為主,很大工件電解拋光規(guī)范:2300*1100*1000,所加工產(chǎn)品首要用于精密電子配件、家私、餐具方面。加工后的產(chǎn)品完全可以經(jīng)過(guò):ROHS、FDA、QS等規(guī)范查驗(yàn)。區(qū)別于傳統(tǒng)的純機(jī)械或純化學(xué)的拋光方法,CMP通過(guò)化學(xué)的和機(jī)械的綜合作用,從而避免了由單純機(jī)械拋光造成的表面損傷和由單純化學(xué)拋光易造成的拋光速度慢、表面平整度和拋光一致性差等缺點(diǎn)。

為了保證化學(xué)拋光的效果,必須使金屬表面溶解,并在表面上形成液體膜或固體膜。因此,金屬的化學(xué)拋光液必須具有溶解金屬的能力和形成保護(hù)膜的能力。化學(xué)拋光液的基本組成一般包括腐蝕劑、氧化劑、添加劑和水。腐蝕劑是主要成分,如果零件在溶液中不溶解,拋光就不能進(jìn)行。棫楦金屬材料有限公司成立于2010年,公司具有全自動(dòng)電解出產(chǎn)線4條,手動(dòng)電解出產(chǎn)線3條,首要以不銹鋼、不銹鐵電解拋光、鈍化加工為主,很大工件電解拋光規(guī)范:2300*1100*1000,所加工產(chǎn)品首要用于精密電子配件、家私、餐具方面。氧化劑和添加劑可抑制腐蝕過(guò)程,使反應(yīng)朝有利于拋光的方向進(jìn)行。水對(duì)拋光液濃度起調(diào)節(jié)作用,便于反應(yīng)產(chǎn)物的擴(kuò)散。


棫楦金屬材料有限公司成立于2010年,公司具有全自動(dòng)電解出產(chǎn)線4條,手動(dòng)電解出產(chǎn)線3條,首要以不銹鋼、不銹鐵電解拋光、鈍化加工為主,很大工件電解拋光規(guī)范:2300*1100*1000,所加工產(chǎn)品首要用于精密電子配件、家私、餐具方面。加工后的產(chǎn)品完全可以經(jīng)過(guò):ROHS、FDA、QS等規(guī)范查驗(yàn)。(6)陰陽(yáng)極材料陰陽(yáng)極棒應(yīng)用銅棒或銅管,銅管長(zhǎng)是電解槽長(zhǎng)加20厘米,陰極板應(yīng)用鉛板,鉛板固定在陰極棒上,鉛板長(zhǎng)為槽高加10厘米,鉛板寬根據(jù)槽長(zhǎng)而定,一般為10厘米,20厘米規(guī)格。

拋光是指利用機(jī)械、化學(xué)或電化學(xué)的作用,使工件表面粗糙度降低,以獲得光亮、平整表面的加工方法。是利用拋光工具和磨料顆?;蚱渌麙伖饨橘|(zhì)對(duì)工件表面進(jìn)行的修飾加工。拋光不能提高工件的尺寸精度或幾何形狀精度,而是以得到光滑表面或鏡面光澤為目的,有時(shí)也用以消除光澤(消光)。電化學(xué)拋光過(guò)程分為兩步:(1)宏觀整平溶解產(chǎn)物向電解液中擴(kuò)散,材料表面幾何粗糙下降,Ra>。通常以拋光輪作為拋光工具。拋光輪一般用多層帆布、毛氈或皮革疊制而成,兩側(cè)用金屬圓板夾緊,其輪緣涂敷由微粉磨料和油脂等均勻混合而成的拋光劑。


棫楦金屬材料有限公司成立于2010年,公司具有全自動(dòng)電解出產(chǎn)線4條,手動(dòng)電解出產(chǎn)線3條,首要以不銹鋼、不銹鐵電解拋光、鈍化加工為主,很大工件電解拋光規(guī)范:2300*1100*1000,所加工產(chǎn)品首要用于精密電子配件、家私、餐具方面。加工后的產(chǎn)品完全可以經(jīng)過(guò):ROHS、FDA、QS等規(guī)范查驗(yàn)。因?yàn)椴讳P鋼品種繁多,不同牌號(hào)的不銹鋼具有不同的腐蝕規(guī)律,不可能采用同一種溶液,所以不銹鋼化學(xué)拋光溶液有多種類型。

拋光環(huán)節(jié)研磨:通過(guò)表面預(yù)處理清除漆面上的污物,消除嚴(yán)重氧化、細(xì)微劃痕及表面缺陷,工藝大多采用水砂紙去除表面瑕疵,一般使用3M 1500-2500皇牌水砂紙。隨著人工成本的提高,水磨砂紙研磨效率不高,使用后砂紙痕較重的問(wèn)題開(kāi)始凸顯,一些主流高l端站開(kāi)始采用3M 金字塔砂紙,P1500和P3000砂紙,使用干磨機(jī)拋光半濕磨的方式進(jìn)行研磨,無(wú)砂紙痕的殘留,機(jī)械化操作,可極大的提高拋光效率。為了把氫脆和退火作用的影響減小到最l低,就必須在最適宜的溫度范圍內(nèi)選擇盡可能短的拋光時(shí)間。


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