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CK450B磁控鍍膜機(jī)生產(chǎn)廠家擇優(yōu)推薦 沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)

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發(fā)布時(shí)間:2020-11-07 07:52  






小型自動(dòng)磁控濺射儀

沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——專業(yè)磁控濺射產(chǎn)品供應(yīng)商,我們?yōu)槟鷰?lái)以下信息。

1. 濺射室極限真空度:≤6.6×10-6 Pa

2. 系統(tǒng)真空檢漏漏率:≤5.0×10-7Pa.l/S

3. 系統(tǒng)從大氣開(kāi)始抽氣:濺射室30分鐘可達(dá)到6.6×10-4 Pa;

4. 系統(tǒng)停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后真空度:≤5Pa

5. 濺射真空室1套,立式上開(kāi)蓋結(jié)構(gòu),尺寸不小于Ф300mm×300mm,全不銹鋼結(jié)構(gòu),弧焊接,表面進(jìn)行電化學(xué)拋光,內(nèi)含防污內(nèi)襯,可內(nèi)烘烤到100~150℃,接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封,腔體內(nèi)有照明系統(tǒng)

6. 磁控濺射系統(tǒng) 3套, 提供3塊測(cè)試靶材。鍍膜不均勻度≤5%

7. 旋轉(zhuǎn)基片臺(tái) 1套,樣品臺(tái)可放置不小于100mm樣品1片,具有連續(xù)旋轉(zhuǎn)功能,旋轉(zhuǎn)0—30轉(zhuǎn)/分連續(xù)可調(diào)?;訜釡囟龋菏覝亍?00°C連續(xù)可調(diào),由熱電偶閉環(huán)反饋控制,加熱電源配備控溫表,控溫方式為PID自動(dòng)控溫及數(shù)字顯示

8. 觀察窗口及法蘭接口部件 1套

9. 工作氣路1套,包含:100SCCM、20SCCM質(zhì)量流量控制器、CF16截止閥、管路、接頭等共2路; DN16充氣閥、管路、接頭等2路;

10. 抽氣機(jī)組及閥門(mén)、管道 1套,包含1臺(tái)進(jìn)口復(fù)合分子泵及變頻控制電源(680L/s ,德國(guó)普發(fā)Hipace700分子泵);1臺(tái)機(jī)械泵(4L/S) ,1臺(tái)DN40氣動(dòng)截止閥,機(jī)械泵與真空室之間的旁抽管路1套,CC150氣動(dòng)閘板閥1臺(tái)(用于復(fù)合分子泵與真空室隔離),節(jié)流閥1臺(tái),DN40旁抽氣閥1臺(tái),壓差式充氣閥1臺(tái);需要穩(wěn)定磁場(chǎng),用高斯計(jì)測(cè)量靶材表面磁場(chǎng)強(qiáng)度,由于磁場(chǎng)線本身是閉合曲線,靶材磁場(chǎng)回路兩端磁場(chǎng)強(qiáng)度自然比中間位置強(qiáng),可以選擇用弱磁鐵,同時(shí),基材要避開(kāi)無(wú)法調(diào)整的磁場(chǎng)變化較大的部分。管道采用不銹鋼三通及波紋管,

11. 安裝機(jī)臺(tái)架組件 1套,由方鋼型材焊接成,快卸圍板表面噴塑處理,機(jī)臺(tái)表面用不銹鋼蒙皮裝飾,四只腳輪,可固定,可移動(dòng)。



線列式磁控生產(chǎn)線

沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司專業(yè)生產(chǎn)、銷售磁控濺射產(chǎn)品,我們?yōu)槟治鲈摦a(chǎn)品的以下信息。

采用先進(jìn)的in-line產(chǎn)線結(jié)構(gòu),Twin-Mag孿生陰極磁控濺射技術(shù),并配以全自動(dòng)控制系統(tǒng)、先進(jìn)的真空系統(tǒng),可在玻璃襯底上鍍制SiO2、ITO、AZO、Al、Ni、Ti等各類絕緣介質(zhì)薄膜、金屬或合金薄膜,并可連續(xù)濺鍍多種不同材質(zhì)的薄膜構(gòu)成復(fù)合多膜層結(jié)構(gòu),適合大規(guī)模光學(xué)、電學(xué)薄膜的生產(chǎn),做到一機(jī)多用具有高能效、高可靠性、低成本的優(yōu)勢(shì)。微電子行業(yè)領(lǐng)域中,其是一種非熱式鍍膜技術(shù),主要應(yīng)用在化學(xué)氣象沉積上。

     本產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用于觸摸屏ITO鍍膜、LCD顯示屏ITO鍍膜、薄膜太陽(yáng)能電池背電極及AZO鍍膜、彩色濾光片鍍膜、電磁屏蔽玻璃鍍膜、AR鍍膜、裝飾鍍膜等產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域。



小型磁控濺射儀的優(yōu)勢(shì)

設(shè)備主要優(yōu)勢(shì)    

實(shí)用性:設(shè)備集成度高,結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小,可以滿足客戶實(shí)驗(yàn)室空間不足的苛刻條件;通過(guò)更換設(shè)備上下法蘭可以實(shí)現(xiàn)磁控與蒸發(fā)功能的轉(zhuǎn)換,實(shí)現(xiàn)一機(jī)多用;

方便性:設(shè)備需要拆卸的部分均采用即插即用的方式,接線及安裝調(diào)試簡(jiǎn)單,既保證了設(shè)備使用方便又保證了設(shè)備的整潔;

高性價(jià)比:設(shè)備主要零部件采用進(jìn)口或國(guó)內(nèi)品牌,以國(guó)產(chǎn)設(shè)備的價(jià)格擁有進(jìn)口設(shè)備的配置,從而保證了設(shè)備的質(zhì)量及性能;

安全性:獨(dú)立開(kāi)發(fā)的PLC 觸摸屏智能操作系統(tǒng)在傳統(tǒng)操作系統(tǒng)的基礎(chǔ)上新具備了漏氣自檢與提示、通訊故障自檢、保養(yǎng)維護(hù)提示等功能,保證了設(shè)備的使用安全性能;

期望大家在選購(gòu)磁控濺射產(chǎn)品時(shí)多一份細(xì)心,少一份浮躁,不要錯(cuò)過(guò)細(xì)節(jié)疑問(wèn)。想要了解更多磁控濺射產(chǎn)品的相關(guān)資訊,歡迎撥打圖片上的熱線電話?。?!



濺射鍍膜的特點(diǎn)

濺射就是從靶表面撞擊出原子物質(zhì)的過(guò)程。濺射產(chǎn)生的原子或分子沉積到基體(零件)表面的過(guò)程就是濺射鍍膜。

濺射鍍膜與真空鍍膜相比,有如下特點(diǎn):

1.任何物質(zhì)都可以濺射, 尤其是高熔點(diǎn)金屬、低蒸氣壓元素和化合物;

2.濺射薄膜與襯底的附著性好;

3.濺射鍍膜的密度高,孔少,膜層純度高;

4.膜層厚度可控性和重復(fù)性好。

以上就是為大家介紹的全部?jī)?nèi)容,希望對(duì)大家有所幫助。如果您想要了解更多磁控濺射產(chǎn)品的知識(shí),歡迎撥打圖片上的熱線聯(lián)系我們。







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