光氧除味設(shè)備想要達到理想的工作效率，在設(shè)計原理上不斷引進高新技術(shù)，不斷的讓設(shè)備技術(shù)在進步，光氧化催化技術(shù)利用光激發(fā)氧化將O2、H2O2等氧化劑與光輻射相結(jié)合。所用光主要為紫外光，包括uv-H2O2、uv-O2等工藝，可以用于處理污水中CHCl3、CCl4等難降解物質(zhì)。另外，在有紫外光的Fenton體系中，紫外光與鐵離子之間存在著協(xié)同效應(yīng)，使H2O2分解產(chǎn)生自由基的速率大大加快，促近有機物的氧化去除。

光氧除味設(shè)備應(yīng)用范圍也越來越廣泛，已經(jīng)在下面多種行業(yè)得到使用。

1、市政行業(yè)：污水處理廠、垃圾處理站、垃圾中轉(zhuǎn)站、污水泵站等產(chǎn)生的H2S、NH3、惡臭異味凈化；

2、工業(yè)企業(yè)： 噴漆噴涂、皮革、造紙、印刷、化工廠、化肥廠、橡膠廠、煉油廠、電鍍廠、飼料、食品、養(yǎng)殖等工業(yè)企業(yè)排放的笨類、酯類、醇類、酮類、酚類等廢氣、惡臭、異味氣體凈化處理；

3、生活輔助設(shè)施：農(nóng)貿(mào)市場、垃圾場、屠宰場、廢品站、廁所、下水道等散發(fā)的惡臭氣體的處理。

uv光解設(shè)備的內(nèi)部組成主要由紫外線燈管和光催化活性纖維濾光層組成。攜帶的正負電子不平衡，因此需要與氧分子結(jié)合產(chǎn)生臭氧。

等離子體凈化器裝置由電源和齒板放電裝置提供動力，該裝置產(chǎn)生高強度，高濃度，高能量的活性自由基，并在毫秒時間內(nèi)瞬間氧化并減少有害的廢氣分子。大多數(shù)污染物會降解為二氧化碳和水，并且易于處理。

uv光解是細菌在光束中裂解惡臭氣體的分子鍵，破壞細菌的核酸，然后通過臭氧氧化，完全達到除臭殺菌的目的。

等離子體凈化器利用催化氧化劑的強氧化性和高吸附性來連續(xù)催化未處理的污染物和所產(chǎn)生的物質(zhì)的氧化反應(yīng)，從而可以在多級凈化后將有害廢氣排放到標準氣體中。