氦質(zhì)譜檢漏原理

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氦質(zhì)譜檢漏技術(shù)是以無色、無味的惰性氣體氦氣為示蹤介質(zhì)、以磁質(zhì)譜分析儀為檢測儀器，用于檢漏的一種檢測技術(shù)，氦檢漏設(shè)備，它的檢漏靈敏度可達(dá)10-14～10-15Pam3/s，可以準(zhǔn)確確定漏孔位置和漏率。氦質(zhì)譜檢漏儀主要由質(zhì)譜室、真空系統(tǒng)組件和電子學(xué)控制元件三大部分組成。質(zhì)譜室接在分子泵的高真空端，入口接在分子泵和機(jī)械泵之間，氦檢漏設(shè)備價(jià)格，利用分子泵對不同氣體具有不同壓縮比的特點(diǎn)，氦氣逆著分子泵的抽氣方向進(jìn)入質(zhì)譜室。檢漏儀在質(zhì)譜室中將氣體電離，這些離子在加速電場的作用下進(jìn)入磁場，在洛倫茲力作用下發(fā)生偏轉(zhuǎn)，由于不同荷質(zhì)比的離子具有不同的電磁學(xué)特性，偏轉(zhuǎn)半徑各不相同，在擋板的作用下，氦檢漏設(shè)備保養(yǎng)，氦檢漏儀的收集板只允許帶正電的氦離子被接收到，單位時(shí)間到達(dá)收集板的氦離子對應(yīng)于一個(gè)電流信號，這個(gè)電流信號正比于進(jìn)入到達(dá)收集板氦離子的數(shù)量，電流信號經(jīng)過放大后顯示在質(zhì)譜儀的顯示面板上，其大小反映了泄漏點(diǎn)的漏率，通過泄漏率大小來確定該位置泄漏程度的大小。

氦質(zhì)譜檢漏儀的示蹤氣體選用氦氣，是因?yàn)楹饩哂幸韵聝?yōu)良特性：

①氦氣在空氣中的含量少，體積含量為5.24×10-6，如果氦氣在環(huán)境中的含量超過標(biāo)準(zhǔn)，可以比較容易地探測到極微量的氦氣；

②氦分子小、質(zhì)量輕、易擴(kuò)散、易穿越漏孔、易于檢測也易于清除；

③氦離子荷質(zhì)比小，易于進(jìn)行質(zhì)譜分析；

④氦氣是惰性氣體，化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，不會腐蝕和損傷任何設(shè)備；

⑤氦氣無毒，不凝結(jié)，極難容于水。

氦檢漏設(shè)備簡介

中文名:真空檢漏

拼音:zhenkong jianlou

英文名:vacuum leak detection

真空系統(tǒng)、容器或器件的器壁因材料本身缺陷或焊縫、機(jī)械連接處存在孔洞、裂紋或間隙等缺陷，外部大氣通過這些缺陷進(jìn)入系統(tǒng)內(nèi)部，致使系統(tǒng)、容器或器件達(dá)不到預(yù)期的真空度，這種現(xiàn)象稱為漏氣。造成漏氣的缺陷稱為漏孔。漏孔尺寸微小、形狀復(fù)雜，無法用幾何尺寸表示，因此在真空技術(shù)中用漏率來表示漏孔的大小。漏率是指單位時(shí)間內(nèi)漏入系統(tǒng)的氣體量，其單位為帕·米3/秒(Pa·m3/sec)或托·升/秒(Torr·L/sec)。

1Pa·m3/sec=7.5(Torr·L/sec)

真空檢漏技術(shù)就是用適當(dāng)?shù)姆椒ㄅ袛嗾婵障到y(tǒng)、容器或器件是否漏氣、確定漏孔位置及漏率大小的一門技術(shù)，相應(yīng)的儀器稱為檢漏儀。在真空系統(tǒng)、容器、器件制造過程中借助真空檢漏技術(shù)確定它們的真空氣密性、探查漏孔的位置，以便采取措施將漏孔封閉從而使系統(tǒng)、容器、器件中的真空狀態(tài)得以維持。

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氦質(zhì)譜檢漏儀

待機(jī)時(shí)電離室真空度保持在≤3x10-2Pa，燈絲不易被氧化脆斷。在檢漏過程中，當(dāng)出現(xiàn)意外情況，系統(tǒng)突然暴露大氣或真空度突然降低，導(dǎo)致大量的氣體突然進(jìn)入電離室，真空度≥1x10-1Pa時(shí)，燈絲電流急劇增大，燈絲被碳化，就發(fā)生了脆斷現(xiàn)象。

氦質(zhì)譜檢漏儀燈絲壽命如何延長？有前面分析已知，造成氦質(zhì)譜檢漏儀燈絲脆斷的原因：1.真空度低；2.燈絲電流過大；3.對燈絲有害的氣體氣壓太高（氧化性氣體、水蒸氣、氫氣）。那么，在使用中盡量避免燈絲在上述惡劣環(huán)境下長時(shí)間開啟，或者說盡量提高燈絲的上述使用條件就可以有效延長氦質(zhì)譜檢漏儀的燈絲壽命。如：1.使用中盡量將預(yù)置真空開關(guān)空擋；2.避免電離室泄入有害氣體（氧化性氣體、水蒸氣、氫氣）。

真空法氦質(zhì)譜檢漏原理

真空法氦質(zhì)譜檢漏原理：

采用真空法檢漏時(shí)，需要利用輔助真空泵或檢漏儀對被檢產(chǎn)品內(nèi)部密封室抽真空，采用氦罩或噴吹的方法在被檢產(chǎn)品外表面施氦氣，當(dāng)被檢產(chǎn)品表面有漏孔時(shí)，氦氣就會通過漏孔進(jìn)入被檢產(chǎn)品內(nèi)部，再進(jìn)入氦質(zhì)譜檢漏儀，從而實(shí)現(xiàn)被檢產(chǎn)品泄漏量測量。按照施漏氣體方法的不同，又可以將真空法分為真空噴吹法和真空氦罩法。其中真空噴吹法采用噴槍的方式向被檢產(chǎn)品外表面噴吹氦氣，可以實(shí)現(xiàn)漏孔的定位； 真空氦罩法采用有一定密閉功能的氦罩將被檢產(chǎn)品全部罩起來，在罩內(nèi)充滿一定濃度的氦氣，可以實(shí)現(xiàn)被檢產(chǎn)品總漏率的測量。

真空法檢漏有何優(yōu)點(diǎn)：真空法的優(yōu)點(diǎn)是檢測靈敏度高，可以定位漏孔，能實(shí)現(xiàn)大容器或復(fù)雜結(jié)構(gòu)產(chǎn)品的檢漏。

真空法檢漏缺點(diǎn)：真空法的缺點(diǎn)是只能實(shí)現(xiàn)一個(gè)大氣壓差的漏率檢測，不能真實(shí)反映帶壓被檢產(chǎn)品的真實(shí)泄漏狀態(tài)。

用途：真空法的檢測主要應(yīng)用于真空密封性能要求，但不帶壓工作的產(chǎn)品，如空間活動部件、液氫槽車、環(huán)境模擬設(shè)備等。

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