脈沖激光沉積介紹

脈沖激光沉積，是一種用途廣泛的薄膜沉積技術。脈沖激光快速蒸發(fā)靶材，生成與靶材組成相同的薄膜。PLD 的獨特之處是能量源（脈沖激光）位于真空室的外面?！驹O備主要用途】PLD450A型脈沖激光沉積設備采用PLD脈沖激光沉積技術，用于制備高溫超導薄膜、半導體膜、鐵電薄膜、硬質(zhì)薄膜以及微電子和光電子用多元氧化物薄膜及異質(zhì)結(jié)，也可用于制備氮、碳、硅化合物及各種有機—無機復合材料薄膜及金剛石薄膜等。這樣，在材料合成時，工作壓力的動態(tài)范圍很寬，達到10-10 Torr ~ 100 Torr。通過控制鍍膜壓力和溫度，可以合成一系列具有獨特功能的納米結(jié)構和納米顆粒。

另外，PLD 是一種“數(shù)字”技術，在納米尺度上進行工藝控制（A°/pulse）。

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脈沖激光沉積設備介紹

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是比較理想的薄膜與涂層合成設備。可制備的薄膜包括氮化物、氧化物、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2D材料。該法無需在沉積后進行退火促進內(nèi)部擴散或結(jié)晶，對于生長溫度是關鍵參數(shù)的研究或者被沉積的材料或基片不適合高溫退火的情況是有用的。Blue Wave還提供相關系統(tǒng)配件，例如基片加熱裝置、原位監(jiān)測工具。此外，BlueWave還為您提供標準的薄膜以及材料涂層，例如氧化物涂層、導電薄膜、無定型或納米晶Si/SiC、晶體AlN-GaN、聚合物、納米鉆石、HFCVD鉆石涂層以及器件加工。