東莞真空電鍍設(shè)備對鍍件與鍍膜層有良好的接觸性能與較高的結(jié)合力，真空電鍍設(shè)備熱膨脹系數(shù)相差小，不起反應(yīng)，流平性能好。

東莞真空電鍍設(shè)備施涂性能良好。真空電鍍設(shè)備流平性能良好，有適當(dāng)?shù)酿ざ?、固化時(shí)間短。真空電鍍設(shè)備與鍍膜層要有良好的接觸性能；真空電鍍設(shè)備與底涂層要有一定的相溶性；真空電鍍設(shè)備成膜性能與施涂性能優(yōu)良；真空電鍍設(shè)備具有適當(dāng)?shù)臋C(jī)械強(qiáng)度；真空電鍍設(shè)備防潮、抗溶劑、耐真空電鍍設(shè)備腐蝕性能好?？估匣阅軓?qiáng)。

真空七彩電鍍生產(chǎn)廠家的真空鍍膜根據(jù)鍍膜氣相金屬產(chǎn)生的方式和沉積方式的不同，分為熱蒸發(fā)鍍膜法和磁控濺射鍍膜法兩種工藝。其中，磁控濺射法由于鍍膜層和基材的結(jié)合力強(qiáng)，鍍膜層致密、均勻等優(yōu)點(diǎn)，更具有技術(shù)優(yōu)勢。

合金型鍍膜材料有鎳-鉻、鎳-鐵、鐵-鈷、金-銀-金等；金屬化合物有二氧化硅、二氧化鈦、二氧化希等。其中，尤以鋁應(yīng)用多普遍。這主要因?yàn)殇X蒸發(fā)溫度低、易操作、鋁鍍層對塑料附著力好、對紫外線和氣體阻隔性強(qiáng)、價(jià)格低廉。

真空電鍍加工技術(shù)一般分為兩大類，即物理氣相沉積（PVD）技術(shù)和化學(xué)氣相沉積（CVD）技術(shù)。

物理氣相沉積技術(shù)是指在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，直接沉積到基體表面上的方法。制備硬質(zhì)反應(yīng)膜大多以物理氣相沉積方法制得，它利用某種物理過程，如物質(zhì)的熱蒸發(fā)，或受到離子轟擊時(shí)物質(zhì)表面原子的濺射等現(xiàn)象，實(shí)現(xiàn)物質(zhì)原子從源物質(zhì)到薄膜的可控轉(zhuǎn)移過程。