鍍鋁膜工藝流程

真空蒸鍍原理

將被鍍薄膜基材（筒狀〕裝在真空蒸鍍機(jī)中，用真空泵抽真空，使鍍膜中的真空度達(dá)到1.3×10－2～1.3×10-3Pa，加熱坩鍋使高純度的鋁絲在1200℃～1400℃的溫度下溶化并蒸發(fā)成氣態(tài)鋁。氣態(tài)鋁微粒在移動的薄膜基材表面沉積、經(jīng)冷卻還原即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層。（2）、膠液中的殘留溶劑較多，印刷膜復(fù)合后，墨層被膠液中的殘留溶劑所浸潤，從而可能產(chǎn)生斑點(diǎn)現(xiàn)象。通過控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、薄膜基材的移動速度以及鍍膜室的真空度等來控制鍍鋁層的厚度，一般鍍鋁層厚度在25～500nm，鍍鋁薄膜的寬度為800mm～2000mm。

轉(zhuǎn)移法。是借助載體膜(真空鍍鋁膜)將金屬鋁層轉(zhuǎn)移到基材的表面而形成鍍鋁薄膜。[1]鍍鋁薄膜生產(chǎn)工藝流程：基材放卷→抽真空→加熱蒸發(fā)舟→送鋁絲→蒸鍍→冷卻→測厚→展平→收卷。轉(zhuǎn)移法是在直接蒸鍍法的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的新工藝，它克服了直接蒸鍍法對基材要求的局限性，尤其適合于在各種紙及紙板上進(jìn)行鍍鋁，也可用于塑料薄膜的鍍鋁。國外已將轉(zhuǎn)移法應(yīng)用到布、纖維、皮革等基材的鍍鋁產(chǎn)品上。我國主要采用轉(zhuǎn)移法生產(chǎn)鍍鋁紙。[1]

鍍鋁薄膜生產(chǎn)工藝流程：

基材放卷→抽真空→加熱蒸發(fā)舟→送鋁絲→蒸鍍→冷卻→測厚→展平→收卷

鍍鋁膜的應(yīng)用

鍍鋁薄膜干式復(fù)合應(yīng)用中的常見問題及解決方法：

 復(fù)合后鍍鋁膜的鍍鋁層發(fā)生遷移現(xiàn)象 產(chǎn)生原因：  （1）、鍍鋁層與基膜之間的結(jié)合牢度比較差；鍍鋁薄膜干式復(fù)合應(yīng)用中的常見問題及解決方法復(fù)合膜出現(xiàn)斑點(diǎn)：產(chǎn)生原因：（1）、膠粘劑選用不當(dāng)，普通膠粘劑對鍍鋁層親和力較差，涂布性能差，如果徒步不均勻，就會出現(xiàn)斑點(diǎn)現(xiàn)象。 （2）、所選用的膠粘劑不合適； （3）、復(fù)合膜的固化時間過長；  （4）、涂膠量過大，膠粘劑干燥不充分，殘留的溶劑逐步滲透到鍍鋁層，造成鍍鋁層的遷移；  （5）、張力控制不當(dāng)，鍍鋁膜的基膜在較大張力下發(fā)生彈性形變，從而影響到鍍鋁層的附著力，這也是促進(jìn)鍍鋁膜的鍍鋁層發(fā)生遷移的因素之一。