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溫度對微弧氧化的影響
微弧氧化與陽極氧化不同,所需溫度范圍較寬。一般為10—90度。溫度越高,成膜越快,但粗糙度也增加。且溫度高,會形成水氣。一般建議在20—60度。由于微弧氧化以熱能形式釋放,所以液體溫度上升較快,微弧氧化過程須配備容量較大的熱交換制冷系統(tǒng)以控制槽液溫度。在相同的微弧電解電壓下,電解質(zhì)濃度越大,成膜速度就越快,溶液溫度上升越慢,反之,成膜速度較慢,溶液溫度上升較快。所以微弧氧化過程中一定要控制好溫度。微弧、微弧氧化、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化電源
合金材料及表面狀態(tài)對微弧氧化的影響
微弧氧化技術(shù)對鋁基工件的合金成分要求不高,對一些普通陽極氧化難以處理的鋁合金材料,如含銅、高硅鑄鋁合金的均可進(jìn)行微弧氧化處理。對工件表面狀態(tài)也要求不高,一般不需進(jìn)行表面拋光處理。對于粗糙度較高的工件,經(jīng)微弧氧化處理后表面得到修復(fù)變得更均勻平整;微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化圖片、微弧氧化技術(shù)設(shè)備。而對于粗糙度較低的工件,經(jīng)微弧氧化后,表面粗糙度有所提高。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化電源
微弧氧化設(shè)備
微弧氧化設(shè)備有熱交換和制冷設(shè)備。由于微弧氧化過程中工件表面具有較高的氧化電壓并通過較大的電解電流,使產(chǎn)生的熱量大部分集中于膜層界面處,而影響所形成膜層的質(zhì)量,因此微弧氧化必須使用配套的熱交換制冷設(shè)備,使電解液及時冷卻,保證微弧氧化在設(shè)置的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行??蓪㈦娊庖翰捎醚h(huán)對流冷卻的方式進(jìn)行,既能控制溶液溫度,又達(dá)到了攪拌電解液的目的。微弧氧化技術(shù)的內(nèi)容和工藝流程微弧氧化技術(shù)主要針對對象是鋁、鎂、鈦等輕金屬以及他們的合金。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)
微弧氧化技術(shù)的優(yōu)勢
采用微弧氧化技術(shù)對鋁鎂鈦等輕金屬及其合金材料進(jìn)行表面強(qiáng)化處理,微弧氧化處理后的鋁基表面陶瓷膜層具有硬度高,耐蝕性強(qiáng),絕緣性好,膜層與基底金屬結(jié)合力強(qiáng),并具有很好的耐磨和耐熱沖擊等性能。微弧氧化電解液電解液抗污染能力強(qiáng)和再生重復(fù)使用率高,因而對環(huán)境污染小,區(qū)別于傳統(tǒng)的電鍍非常環(huán)保,也符合我國可持續(xù)發(fā)展戰(zhàn)略的需要。影響微弧氧化效果的因素一、電流密度(1)電流密度越大,氧化工業(yè)鋁型材的生長速度越快,工業(yè)鋁型材厚度不斷增加,但易出現(xiàn)燒損現(xiàn)象。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源、微弧氧化工藝