等離子干法刻蝕技術(shù)是利用等離子體進(jìn)行薄膜微細(xì)加工的技術(shù)。在典型的干法刻蝕工藝過程中，一種或多種氣體原子或分子混合于反應(yīng)腔室中，在外部能量作用下（如射頻、微波等）形成等離子體，干法刻蝕技術(shù)由于具有良好的各向異性和工藝可控性已被廣泛應(yīng)用于微電子產(chǎn)品制造領(lǐng)域，憑借在等離子體控制、反應(yīng)腔室設(shè)計(jì)、刻蝕工藝技術(shù)、軟件技術(shù)的積累與創(chuàng)新，北方華創(chuàng)微電子在集成電路、半導(dǎo)體照明、微機(jī)電系統(tǒng)、先進(jìn)封裝、功率半導(dǎo)體等領(lǐng)域可提供高端裝備及工藝解決方案。形成了對(duì)硅、介質(zhì)、化合物半導(dǎo)體、金屬等多種材料的刻蝕能力，其中應(yīng)用于集成電路領(lǐng)域的硅刻蝕機(jī)已突破14nm技術(shù)，進(jìn)入主流芯片代工廠，其余各類產(chǎn)品也憑借其優(yōu)異的工藝性能成為了客戶的。

用于金屬牌匾，特別是不銹鋼牌匾內(nèi)外裝修上制作大字，裝飾圖案，具有素雅，別具一格的特點(diǎn)。

本打標(biāo)方法可顯著提高金屬制品的標(biāo)注水平和裝飾水平，使產(chǎn)品外觀精美，提次，利于防偽。特別是對(duì)于需要經(jīng)常改變參數(shù)，有編號(hào)，日期的標(biāo)注為適宜，可采用蠟紙板隨時(shí)改變，利于記錄和質(zhì)量跟蹤，并且成本低廉，操作簡(jiǎn)便，

已使用該機(jī)器的用戶反映良好。

無論是高精密 蝕刻機(jī) 還是片式蝕刻機(jī)，還是輥?zhàn)游g刻機(jī)，穩(wěn)壓泵輸出功率一定要大，才可以處理蝕刻速度更快，表面整平的難題。另外還一定要保證蝕刻機(jī)總體系統(tǒng)軟件不可以要走電現(xiàn)像，在蝕刻段如果有走電的現(xiàn)像，一是給作業(yè)者產(chǎn)生不安全的要素，還有一個(gè)就是說在半蝕刻表面會(huì)出現(xiàn)凸凹不平，等于電解法效用會(huì)另外開展，非常是是間越長(zhǎng)，主要表現(xiàn)的現(xiàn)像會(huì)更顯著，有較強(qiáng)的不銹鋼拋光感。這類現(xiàn)像小編在304不銹鋼板模板中發(fā)覺此難題。

1、上色機(jī)

任何一件需求蝕刻的標(biāo)牌，在凸起的部分都要有抗蝕保護(hù)層，不然就會(huì)洼陷。而標(biāo)牌上洼陷的區(qū)域，也一定要填上油漆以起到裝飾與防護(hù)目的。這就需求標(biāo)牌加工廠具有一臺(tái)用于金屬腐蝕標(biāo)牌的電泳填漆工藝的上色機(jī)。

2、沖壓機(jī)

標(biāo)牌加工廠運(yùn)用的沖壓機(jī)通過電動(dòng)機(jī)驅(qū)動(dòng)飛輪，并通過離合器，傳動(dòng)齒輪帶動(dòng)曲柄連桿機(jī)構(gòu)使滑塊上下運(yùn)動(dòng)，帶動(dòng)拉伸模具對(duì)金屬板成型。并依據(jù)噸位的不同，沖壓標(biāo)牌的尺度是不一樣的。

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