在整個(gè)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中，中國(guó)投入資金的就屬晶圓代工部份。具體來說，晶圓代工就是在硅晶圓上制作電路與電子元件，這個(gè)步驟為整個(gè)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中技術(shù)復(fù)雜，且資金投入的領(lǐng)域。    以處理器為例，其所需處理步驟可達(dá)數(shù)百道，且各類加工機(jī)臺(tái)先進(jìn)又昂貴，動(dòng)輒數(shù)千萬美元起跳。而一個(gè)成熟的晶圓代工廠其設(shè)備投入占總設(shè)備比重在70%～80%之間。    氧化：其目的在于生成二氧化硅薄膜。用硅作為半導(dǎo)體原材料的重要因素之一就是硅容易生長(zhǎng)出二氧化硅膜層，這樣在半導(dǎo)體上結(jié)合一層絕緣材料，就可用做摻雜阻擋層、表面絕緣層，及元件中的絕緣部分。

用于金屬腐蝕標(biāo)牌的耐腐蝕油墨必須具有以下要求：易于絲網(wǎng)印刷，流變性小，無的精細(xì)油墨，圖像清晰，與板粘接牢固，耐腐蝕，腐蝕后易于去除油墨等，耐腐蝕油墨大致可分為兩種類型：絲網(wǎng)印刷防腐成像油墨;紫外成像防腐油墨。

　　1，絲網(wǎng)印刷防腐成像油墨：

　　油墨可分為三種類型：耐腐蝕性：

　　a，耐酸腐蝕;

　　b，耐堿腐蝕;

　　c，耐酸堿腐蝕。

有不少朋友向我們小編反映到，自己在使用真空蝕刻機(jī)制作網(wǎng)版的過程中，總是在圖文部分出現(xiàn)顯影不透的現(xiàn)象。那作為一個(gè)的真空蝕刻機(jī)廠家，小編自然是總結(jié)了以下知識(shí)，希望能夠幫助到大家。

    一、是在恒溫箱中烘干網(wǎng)版的時(shí)間太長(zhǎng)或烘干的溫度太高，兩者都可使涂布感光膠的網(wǎng)版在沒有曝光之前就產(chǎn)生“熱敏化”，如果再曝光就產(chǎn)生過量曝光，因此，圖像難以顯透了。    二、在涂布感光膠時(shí)，由于涂布的次數(shù)較多，涂布時(shí)又不注意避光操作造成多次曝光，再曝光時(shí)就難以顯透圖像。    三、曬版光源強(qiáng)度太大，曬版時(shí)間太長(zhǎng)造成曝光過度，造成顯影困難。有時(shí)圖像反差太小，曝光時(shí)就會(huì)產(chǎn)生曝光過度，造成顯影困難。

 用我們的機(jī)器生產(chǎn)鏤空切割產(chǎn)品，具有精度高，速度快，成品率高等優(yōu)點(diǎn)，同時(shí)藥液使用充分，大大降低生產(chǎn)成本。進(jìn)料寬度與蝕據(jù)客戶要求定制。    金屬蝕刻機(jī)、金屬腐蝕機(jī)應(yīng)用范圍:    適用于高精度、金屬標(biāo)牌，高精度薄板金屬電子零部件（如手機(jī)金屬按鍵面板、金屬網(wǎng)片、精密過濾網(wǎng)等）加工制造。蝕刻精度：根據(jù)制版而定制版精度0.2微米。